Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-10437" >
High-power impulse ...
-
Alami, JonesLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska högskolan
(författare)
High-power impulse magnetron sputtering of Ti-Si-C thin films from a Ti3SiC2 compound target
- Artikel/kapitelEngelska2006
Förlag, utgivningsår, omfång ...
-
Institutionen för fysik, kemi och biologi,2006
-
electronicrdacarrier
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:liu-10437
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-10437URI
-
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2006.06.015DOI
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-18756URI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
-
Ämneskategori:art swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
Original publication: J. Alami, P. Eklund, J. Emmerlich, O. Wilhelmsson, U. Jansson, H. Högberg, L. Hultman, & U. Helmersson, High-power impulse magnetron sputtering of Ti-Si-C thin films from a Ti3SiC2 compound target, 2006, Thin Solid Films, (515), 4, 1731-1736. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2006.06.015. Copyright: Elsevier B.V., http://www.elsevier.com/.
-
We have deposited Ti-Si-C thin films using high-power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) from a Ti3SiC2 compound target. The as-deposited films were composite materials with TiC as the main crystalline constituent. X-ray diffraction and photoelectron spectroscopy indicated that they also contained amorphous SiC, and for films deposited on inclined substrates, crystalline Ti5Si3Cx. The film morphology was dense and flat, while films deposited with dc magnetron sputtering under comparable conditions were rough and porous. Due to the high degree of ionization of the sputtered species obtained in HIPIMS, it is possible to control the film composition, in particular the C content, by tuning the substrate inclination angle, the Ar process pressure, and the bias voltage.
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Eklund, PerLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)perek02
(författare)
-
Emmerlich, JensLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)jenem14
(författare)
-
Wilhelmsson, OlaUppsala universitet,Oorganisk kemi,Department of Materials Chemistry, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala, Sweden(Swepub:uu)olwil451
(författare)
-
Jansson, UlfUppsala universitet,Oorganisk kemi,Department of Materials Chemistry, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala, Sweden(Swepub:uu)uja03434
(författare)
-
Högberg, HansLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)hanho47
(författare)
-
Hultman, LarsLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)larhu75
(författare)
-
Helmersson, UlfLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)ulfhe30
(författare)
-
Linköpings universitetPlasma och ytbeläggningsfysik
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Thin Solid Films: Institutionen för fysik, kemi och biologi515:4, s. 1731-17360040-60901879-2731
Internetlänk
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas