Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-43526" > Chloride-based SiC ...
Fältnamn | Indikatorer | Metadata |
---|---|---|
000 | 02354naa a2200337 4500 | |
001 | oai:DiVA.org:liu-43526 | |
003 | SwePub | |
008 | 091010s2009 | |||||||||||000 ||eng| | |
024 | 7 | a https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-435262 URI |
024 | 7 | a https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.615-617.892 DOI |
040 | a (SwePub)liu | |
041 | a engb eng | |
042 | 9 SwePub | |
072 | 7 | a ref2 swepub-contenttype |
072 | 7 | a kon2 swepub-publicationtype |
100 | 1 | a Pedersen, Henrik,d 1981-u Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial4 aut0 (Swepub:liu)henpe50 |
245 | 1 0 | a Chloride-based SiC epitaxial growth |
264 | 1 | b Trans Tech Publications,c 2009 |
338 | a print2 rdacarrier | |
520 | a Some aspects of the chloride-based CVD growth process have been investigated by using both the approach to add HCl to the standard precursors or/and by using the single molecule precursor methyltrichlorosilane (MTS). The efficiency of the process for different precursors, the growth rate stability and the effect that the Cl/Si-ratio has on the growth have been studied. MTS is showed to be the most efficient precursor; the growth can be hindered by to much chlorine in the gas mixture. The Cl/Si-ratio is also found to be a process parameter that affects the amount of incorporated nitrogen in the epilayers. | |
653 | a NATURAL SCIENCES | |
653 | a NATURVETENSKAP | |
700 | 1 | a Leone, Stefano,d 1978-u Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial4 aut0 (Swepub:liu)stele19 |
700 | 1 | a Henry, Anne,d 1959-u Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial4 aut0 (Swepub:liu)annhe32 |
700 | 1 | a Beyer, Franziska,d 1980-u Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial4 aut0 (Swepub:liu)frabe40 |
700 | 1 | a Lundskog, Anders,d 1981-u Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial4 aut0 (Swepub:liu)andlu37 |
700 | 1 | a Janzén, Erik,d 1954-u Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial4 aut0 (Swepub:liu)erija14 |
710 | 2 | a Linköpings universitetb Tekniska högskolan4 org |
773 | 0 | t Materials Science Forum Vols. 615-617d : Trans Tech Publicationsg , s. 89-q <89- |
856 | 4 8 | u https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-43526 |
856 | 4 8 | u https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.615-617.89 |
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy