Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-54847" >
Age hardening in ar...
Age hardening in arc-evaporated ZrAlN thin films
-
- Rogström, Lina (författare)
- Linköpings universitet,Nanostrukturerade material,Tekniska högskolan
-
- Johnson, Lars (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Johansson, Mats P. (författare)
- SECO Tools AB, Fagersta, Sweden
-
visa fler...
-
- Ahlgren, Mats (författare)
- Sandvik Tooling AB
-
- Hultman, Lars (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Odén, Magnus (författare)
- Linköpings universitet,Nanostrukturerade material,Tekniska högskolan
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Amsterdam : Elsevier Science B.V. 2010
- 2010
- Engelska.
-
Ingår i: Scripta Materialia. - Amsterdam : Elsevier Science B.V.. - 1359-6462 .- 1872-8456. ; 62:10, s. 739-741
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Zr0.44Al0.56N1.20 films were deposited by reactive arc evaporation on WC-Co substrates. As-deposited films have a defect-rich NaCl-cubic and wurtzite phase mixture. During annealing at 1100 degrees C the films undergo simultaneous recovery of the ZrN-rich c-ZrAlN nanoscale domains and formation of semicoherent w-ZrAlN nanobricks, while the excess nitrogen is released. This process results in an age hardening effect as high as 36%, as determined by nanoindentation. At 1200 degrees C, the w-AlN recrystallizes and the hardening effect is lost.
Nyckelord
- PVD
- Nanoindentation
- TEM
- Hardness
- Thin films
- TECHNOLOGY
- TEKNIKVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas