SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-80207"
 

Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-80207" > Growth and Properti...

  • Fager, HannaLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan (författare)

Growth and Properties of Amorphous Hf1−x−yAlxSiyN (0≤x≤0.2; 0≤y≤0.2) and a-Hf0.6Al0.2Si0.2N/nc-HfN Multilayers by DC Reactive Magnetron Sputtering from a Single Hf0.60Al0.20Si0.20 Target

  • BokEngelska

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:liu-80207
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-80207URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:vet swepub-contenttype
  • Ämneskategori:ovr swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • Amorphous (a) and nanocrystalline (nc) Hf1−x−yAlxSiyN and multilayer a-Hf0.6Al0.2Si0.2N/nc-HfN films are grown on Si(001) at temperatures Ts = 100-450 ◦C using ultrahigh vacuum magnetically-unbalanced reactive magnetron sputtering from a single Hf0.60Al0.20Si0.20 target in a 5%-N2/Ar atmosphere at a total pressure of 20 mTorr (2.67 Pa). The composition and nanostructure of Hf1−x−yAlxSiyN is controlled during growth by independently varying the ion energy (Ei) and the ion-to-metal flux ratio (Ji/JMe) incident at the film surface. With Ji/JMe = 8, the composition and nanostructure of the films ranges from x-ray amorphous with 1-x-y = 0.60 at Ei = 15 eV, to an amorphous matrix with encapsulated nanocrystals with 1-x-y = 0.66-0.84 at Ei = 25-35 eV, to nanocrystalline with 1-x-y = 0.96-1.00 at Ei = 45-65 eV. Varying Ji/JMe with Ei = 13 eV yields amorphous alloy films at Ts = 100 ◦C. a-Hf0.6Al0.6Si0.6N/nc-HfN multilayers with periods Λ = 2-20 nm exhibit enhanced fracture toughness compared to polycrystalline VN, TiN, and Ti0.5Al0.5N reference samples; multilayer hardness values increase monotonically from 20 GPa with Λ = 20 nm to 27 GPa with Λ = 2 nm.

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Andersson, J. M.Seco Tools AB, SE-737 82 Fagersta, Sweden (författare)
  • Mei, A.R.B.Frederick Seitz Materials Research Laboratory and Materials Science Department, University of Illinois, USA (författare)
  • Howe, B.M.Air Force Research Laboratory, Materials and Manufacturing Directorate, Wright-Patterson AFB, Ohio, USA (författare)
  • Greene, Joseph ELinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)josgr17 (författare)
  • Petrov, IvanLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)ivape26 (författare)
  • Hultman, LarsLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)larhu75 (författare)
  • Linköpings universitetTunnfilmsfysik (creator_code:org_t)

Internetlänk

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy