Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-99942" >
Direct current magn...
Direct current magnetron sputtered ZrB2 thin films on 4H-SiC(0001) and Si(100)
-
- Tengdelius, Lina (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Samuelsson, Mattias (författare)
- Linköpings universitet,Institutionen för fysik, kemi och biologi,Tekniska högskolan
-
- Jensen, Jens (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
visa fler...
-
- Lu, Jun (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Hultman, Lars (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Forsberg, Urban (författare)
- Linköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska högskolan
-
- Janzén, Erik (författare)
- Linköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska högskolan
-
- Högberg, Hans (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Elsevier BV, 2014
- 2014
- Engelska.
-
Ingår i: Thin Solid Films. - : Elsevier BV. - 0040-6090 .- 1879-2731. ; 550, s. 285-290
- Relaterad länk:
-
https://liu.diva-por... (primary) (Raw object)
-
visa fler...
-
http://liu.diva-port...
-
https://urn.kb.se/re...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- ZrB2 thin films have been synthesized using direct current magnetron sputtering from a ZrB2 compound target onto 4H-SiC(0001) and Si(100) substrates kept at different temperatures (no heating, 400 °C, and 550 °C), and substrate bias voltage (-20 V to -80 V). Time-of-flight energy elastic recoil detection analysis shows that all the films are near stoichiometric and have a low degree of contaminants, with O being the most abundant (< 1 at.%). The films are crystalline, and their crystallographic orientation changes from 0001 to a more random orientation with increased deposition temperature. X-ray diffraction pole figures and selected area electron diffraction patterns of the films deposited without heating reveal a fiber-texture growth. Four point probe measurements show typical resistivity values of the films ranging from ~95 to 200 μΩcm, decreasing with increased growth temperature and substrate bias.
Nyckelord
- Zirconium diboride; Silicon carbide; Thin films; Compound target; Industrial scale deposition system; Crystalline films
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas