Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:uu-144560" >
Controlled growth o...
Controlled growth of nanocrystalline silicon on permalloy micro-patterns
-
Kocka, J. (författare)
-
Mates, T. (författare)
-
Ledinsky, M. (författare)
-
visa fler...
-
Stuchlik, J. (författare)
-
Fejfar, A. (författare)
-
- Gunnarsson, Klas (författare)
- Uppsala universitet,Fasta tillståndets fysik
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- 2007-06-12
- 2007
- Engelska.
-
Ingår i: Applied Physics A. - : Springer Science and Business Media LLC. - 0947-8396 .- 1432-0630. ; 88:4, s. 797-800
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Lithographically prepared micrometer-sized permalloy ellipses were used to control the growth of nanocrystalline Si in otherwise amorphous Si film prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition. Atomic force microscopy and micro-Raman spectroscopy were employed to study the surface structures before and after the deposition of the Si film. The possible applications of the controlled growth of nanocrystalline Si micro-patterns are discussed as well as the mechanisms leading to the growth of these patterns.
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences (hsv//eng)
Nyckelord
- Physics
- Fysik
- TECHNOLOGY
- TEKNIKVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas