Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:uu-154110" >
Epitaxy of Ultrathi...
-
Gao, XindongUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala
(författare)
Epitaxy of Ultrathin NiSi2 Films with Predetermined Thickness
- Artikel/kapitelEngelska2011
Förlag, utgivningsår, omfång ...
-
The Electrochemical Society,2011
-
printrdacarrier
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-154110
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-154110URI
-
https://doi.org/10.1149/1.3580618DOI
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-68347URI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
-
Ämneskategori:art swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
This letter presents a proof-of-concept process for tunable, self-limiting growth of ultrathin epitaxial NiSi2 films on Si (100). The process starts with metal sputter-deposition, followed by wet etching and then silicidation. By ionizing a fraction of the sputtered Ni atoms and biasing the Si substrate, the amount of Ni atoms incorporated in the substrate after wet etching can be controlled. As a result, the thickness of the NiSi2 films is increased from 4.7 to 7.2 nm by changing the nominal substrate bias from 0 to 600 V. The NiSi2 films are characterized by a specific resistivity around 50 mu Omega cm.
Ämnesord och genrebeteckningar
-
TECHNOLOGY
-
TEKNIKVETENSKAP
-
Engineering Science with specialization in Electronics
-
Teknisk fysik med inriktning mot elektronik
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Andersson, JoakimUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Thin Films Group,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)jan27116
(författare)
-
Kubart, TomasUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Thin Films Group,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)tomku340
(författare)
-
Nyberg, TomasUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Thin Films Group,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)tny24390
(författare)
-
Smith, UlfUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)ulfsmith
(författare)
-
Lu, JunLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)junlu07
(författare)
-
Hultman, LarsLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)larhu75
(författare)
-
Kellock, Andrew JIBM Almaden Research Center, San Jose, CA, USA,IBM Almaden Research Center, San Jose, California, USA
(författare)
-
Zhang, ZhenIBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York , USA
(författare)
-
Lavoie, ChristianIBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York , USA
(författare)
-
Zhang, Shi-LiUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)shizh725
(författare)
-
Uppsala universitetFasta tillståndets elektronik
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Electrochemical and solid-state letters: The Electrochemical Society14:7, s. H268-H2701099-00621944-8775
Internetlänk
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Gao, Xindong
-
Andersson, Joaki ...
-
Kubart, Tomas
-
Nyberg, Tomas
-
Smith, Ulf
-
Lu, Jun
-
visa fler...
-
Hultman, Lars
-
Kellock, Andrew ...
-
Zhang, Zhen
-
Lavoie, Christia ...
-
Zhang, Shi-Li
-
visa färre...
- Artiklar i publikationen
-
Electrochemical ...
- Av lärosätet
-
Uppsala universitet
-
Linköpings universitet