SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

onr:"swepub:oai:DiVA.org:uu-154110"
 

Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:uu-154110" > Epitaxy of Ultrathi...

  • Gao, XindongUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala (författare)

Epitaxy of Ultrathin NiSi2 Films with Predetermined Thickness

  • Artikel/kapitelEngelska2011

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • The Electrochemical Society,2011
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-154110
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-154110URI
  • https://doi.org/10.1149/1.3580618DOI
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-68347URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • This letter presents a proof-of-concept process for tunable, self-limiting growth of ultrathin epitaxial NiSi2 films on Si (100). The process starts with metal sputter-deposition, followed by wet etching and then silicidation. By ionizing a fraction of the sputtered Ni atoms and biasing the Si substrate, the amount of Ni atoms incorporated in the substrate after wet etching can be controlled. As a result, the thickness of the NiSi2 films is increased from 4.7 to 7.2 nm by changing the nominal substrate bias from 0 to 600 V. The NiSi2 films are characterized by a specific resistivity around 50 mu Omega cm.

Ämnesord och genrebeteckningar

  • TECHNOLOGY
  • TEKNIKVETENSKAP
  • Engineering Science with specialization in Electronics
  • Teknisk fysik med inriktning mot elektronik

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Andersson, JoakimUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Thin Films Group,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)jan27116 (författare)
  • Kubart, TomasUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Thin Films Group,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)tomku340 (författare)
  • Nyberg, TomasUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Thin Films Group,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)tny24390 (författare)
  • Smith, UlfUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)ulfsmith (författare)
  • Lu, JunLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)junlu07 (författare)
  • Hultman, LarsLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)larhu75 (författare)
  • Kellock, Andrew JIBM Almaden Research Center, San Jose, CA, USA,IBM Almaden Research Center, San Jose, California, USA (författare)
  • Zhang, ZhenIBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York , USA (författare)
  • Lavoie, ChristianIBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, New York , USA (författare)
  • Zhang, Shi-LiUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik,Solid-State Electronics, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Uppsala(Swepub:uu)shizh725 (författare)
  • Uppsala universitetFasta tillståndets elektronik (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Electrochemical and solid-state letters: The Electrochemical Society14:7, s. H268-H2701099-00621944-8775

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy