Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:uu-28798" >
Properties of TiN a...
Properties of TiN and CrN coatings deposited at low temperature using reactive arc-evaporation
-
- Gahlin, R (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialvetenskap,MATERIALS SCIENCE/TRIBOMATERIALS
-
Bromark, M (författare)
-
Hedenqvist, P (författare)
-
visa fler...
-
Hogmark, S (författare)
-
Hakansson, G (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- ELSEVIER SCIENCE SA LAUSANNE, 1995
- 1995
- Engelska.
-
Ingår i: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY. - : ELSEVIER SCIENCE SA LAUSANNE. - 0257-8972. ; 76:1-3, s. 174-180
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- PVD TiN and CrN coatings were deposited at both low (approximate to 200 degrees C) and standard temperatures (approximate to 400 degrees C) using reactive arc-evaporation Variations in microstructure (obtained by TEM and XRD), morphology (studied using SE
Nyckelord
- low temperature; PVD; TIN; CrN; arc-evaporation; PHYSICAL VAPOR-DEPOSITION; TITANIUM NITRIDE COATINGS; RESISTANCE
Publikations- och innehållstyp
- vet (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas