onr:"swepub:oai:DiVA.org:uu-76028"
Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:uu-76028" > Effects of post-dep...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Effects of post-deposition annealing on the material characteristics of ultrathin HfO2 films on silicon
- Puthenkovilakam, R (författare)
- Lin, Y-S (författare)
- Choi, J (författare)
- visa fler...
- Pianetta, P (författare)
- Devine, D (författare)
- Sendler, M (författare)
- Chang, J P (författare)
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- 2005
- 2005
- Engelska.
- Ingår i: J Appl Phys. ; 97:2
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Puthenkovilakam, ...
- Lin, Y-S
- Choi, J
- Lu, Jun
- Blom, Hans-Olof
- Pianetta, P
- visa fler...
- Devine, D
- Sendler, M
- Chang, J P
- visa färre...
- Artiklar i publikationen
- J Appl Phys
- Av lärosätet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
