Surface chemistry of HfI4 on Si(100)-(2x1) studied by core level photoelectron spectroscopy

Sandell, AndersUppsala universitet,Fysiska institutionen,Molekyl- och kondenserade materiens fysik (författare)

The chemistry of HfI4 adsorbed on the Si(100)-(2 x 1) surface has been studied by core level photoelectron spectroscopy in ultra-high vacuum. Two stable surface intermediates are identified: HfI3 and HfI2, both of which remain upon heating to 690 K. The dissociation of HfI4 is accompanied by the formation of SiI. In addition, HfI4 is observed up to 300 K. Complete desorption of iodine occurs in the temperature regime 690-780 K. Deposition of HfI4 at 870 K results in a layer consisting of metallic Hf, whereas deposition at 1120 K results in the formation of Hf silicide. The results indicate that the metallic Hf formed at 870 K is in the form of particles. Oxidation of this film by O2 at low pressure does not result in complete Hf oxidation. This suggests that complete oxidation of Hf is a critical step when using HfI4 as precursor in atomic layer deposition.

NATURVETENSKAP Fysik hsv//swe
NATURAL SCIENCES Physical Sciences hsv//eng
NATURVETENSKAP Fysik Atom- och molekylfysik och optik hsv//swe
NATURAL SCIENCES Physical Sciences Atom and Molecular Physics and Optics hsv//eng
Atomic layer deposition
Chemisorption
Hafnium iodide
Hafnium oxide
Low index single crystal surfaces
Silicon
Synchrotron radiation photoelectron spectroscopy
Physics
Fysik
atomic layer deposition
synchrotron radiation photoelectron spectroscopy
crystal surfaces
low index single
silicon
hafnium oxide
chemisorption
hafnium iodide

Karlsson, Patrik G.Uppsala universitet,Fysiska institutionen (författare)
Richter, J. H.Uppsala universitet,Fysiska institutionen (författare)
Blomquist, JakobLund University,Lunds universitet,Kemisk fysik,Enheten för fysikalisk och teoretisk kemi,Kemiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Chemical Physics,Physical and theoretical chemistry,Department of Chemistry,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH(Swepub:lu)chem-jbl (författare)
Uvdal, PerLund University,Lunds universitet,Kemisk fysik,Enheten för fysikalisk och teoretisk kemi,Kemiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Chemical Physics,Physical and theoretical chemistry,Department of Chemistry,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH(Swepub:lu)chph-puv (författare)
Uppsala universitetFysiska institutionen (creator_code:org_t)

Av författaren/redakt...: Sandell, Anders; Karlsson, Patrik ...; Richter, J. H.; Blomquist, Jakob; Uvdal, Per

Om ämnet

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.