Sökning: onr:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:04267dad-b349-48c1-a611-b4372f2689aa" >
SiGe Esaki tunnel d...
SiGe Esaki tunnel diodes fabricated by UHV-CVD growth and proximity rapid thermal diffusion
-
- Wernersson, Lars-Erik (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH,Solid State Physics,Department of Physics,Faculty of Engineering, LTH
-
Kabeer, S (författare)
-
Zela, V (författare)
-
visa fler...
-
- Lind, Erik (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH,Solid State Physics,Department of Physics,Faculty of Engineering, LTH
-
Zhang, J (författare)
-
- Seifert, Werner (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
Kosel, T (författare)
-
Seabaugh, A (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Institution of Engineering and Technology (IET), 2004
- 2004
- Engelska.
-
Ingår i: Electronics Letters. - : Institution of Engineering and Technology (IET). - 1350-911X .- 0013-5194. ; 40:1, s. 83-85
- Relaterad länk:
-
http://dx.doi.org/10...
-
visa fler...
-
https://lup.lub.lu.s...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- A process for realisation of SiGe Esaki diodes in layers grown by ultra-high vacuum chemical vapour deposition has been developed and the first Esaki diodes are reported for this growth method. Intrinsic SiGe-layers are grown on highly boron-doped p(+)-Si layers, while post-growth proximity rapid thermal diffusion of phosphorous into the SiGe is employed to form an n(+)-layer. Tunnel diodes with a depletion layer width of about 6 nm have been realised in Si0.74Ge0.26, showing a peak current density of 0.18 kA/cm(2) and a current peak-to-valley ratio of 2.6 at room temperature.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas