Sökning: onr:"swepub:oai:lup.lub.lu.se:7738bcdf-8fa1-4928-a064-edd73d860233" >
Investigation of po...
Investigation of polymethylmethacrylate resist residues using photoelectron microscopy
-
- Maximov, Ivan (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
Zakharov, AA (författare)
-
- Holmqvist, Tommy (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Kurslaboratoriet för fysik LTH,Grundutbildning i fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Engelsk rubrik,Undergraduate studies in Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
visa fler...
-
- Montelius, Lars (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Lindau, Ingolf (författare)
- Lund University,Lunds universitet,MAX IV-laboratoriet,Synkrotronljusfysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,MAX IV Laboratory,Synchrotron Radiation Research,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- American Vacuum Society, 2002
- 2002
- Engelska.
-
Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. - : American Vacuum Society. - 1071-1023 .- 1520-8567 .- 0734-211X. ; 20:3, s. 1139-1142
- Relaterad länk:
-
http://dx.doi.org/10...
-
visa fler...
-
https://lup.lub.lu.s...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Quantitative photoelectron spectromicroscopy has been used to study polymethylmethacrylate (PMMA) resist residues on SiO2 surfaces after electron beam exposure and resist development, It was found that correctly exposed and developed PMMA leaves residues with an average thickness of about 1 nm. Higher exposure doses result in the decrease in film thickness, but with residues of about 0.5 mn. The technique can be applied as a powerful tool for surface and interface quality control in technology of electronic devices.
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences (hsv//eng)
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Atom- och molekylfysik och optik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Atom and Molecular Physics and Optics (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- kon (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas