Sökning: onr:"swepub:oai:research.chalmers.se:07ce859f-8c73-4460-ad1a-c02ad506e1ed" >
HfO2 gate dielectri...
HfO2 gate dielectrics on strained-Si and strained-SiGe layers
-
- Johansson, Mikael (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
- Yousif, Mahdi, 1963 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
- Lundgren, Per, 1968 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
visa fler...
-
- Bengtsson, Stefan, 1961 (författare)
- Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
-
Sundqvist, J. (författare)
-
Harsta, Anders (författare)
-
Radamson, H. H. (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- 2003
- 2003
- Engelska.
-
Ingår i: Semiconductor Science And Technology. ; 18:9, s. 820-826
- Relaterad länk:
-
https://research.cha...
Ämnesord
Stäng
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas