Resistividad Eléctrica de Películas Delgadas de Oro Obtenidas por Ion-Plating [Electrical Resistivity of Au Thin Films Deposited by Ion-Plating]

Broitman, Esteban, 1958- (author): Departamento Fisica, Facultad de Ingenieria, Universidad de Buenos Aries, Buenos Aries, Argentina

Latorre, D. (author): Departamento Fisica, Facultad de Ingenieria, Universidad de Buenos Aries, Buenos Aries, Argentina

Zimmeman, Rosa (author): Departamento Fisica, Facultad de Ingenieria, Universidad de Buenos Aries, Buenos Aries, Argentina

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Buenos Aires, Argentina : Asociacion Fisica Argentina, 1992
1992
Spanish.
In: Anales AFA. - Buenos Aires, Argentina : Asociacion Fisica Argentina. ; 3:1, s. 357-360

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Abstract Subject headings

Es sabido que la resistividad eléctrica de las películas delgadas es mayor que la del material en volumen aún para espesores para los cuales el efecto Fuchs-Sondheimer es despreciable. En este caso, la mayor contribución a la resistividad se debe a impurezas y defectos cristalinos. Por eso es interesante hacer mediciones eléctricas en películas en que se pueda establecer la variación de la resistividad con la concentración de defectos, en especial bordes de grano. Esto puede lograrse comparando películas depositadas en vacío y por ion-plating porque esta última produce películas con tamaño de grano significativamente menor que las evaporadas en vacío. En este trabajo se presentan mediciones de la resistividad de películas continuas de oro obtenidas por ambas técnicas, antes y después de tratamientos técnicos. El tamaño de grano de las películas fue observado por microscopía electrónica. Se discuten los resultados en función de la contribución a la resistividad del scattering en los bordes de grano.

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