Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-11448" >
Kinetic Monte Carlo...
-
Fu, KaiKTH,Teoretisk kemi,Theoretical Chemistry
(författare)
Kinetic Monte Carlo study of metal organic chemical vapor deposition growth dynamics of GaN thin film at microscopic level
- Artikel/kapitelEngelska2008
Förlag, utgivningsår, omfång ...
-
AIP Publishing,2008
-
printrdacarrier
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-11448
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-11448URI
-
https://doi.org/10.1063/1.2927389DOI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
-
Ämneskategori:art swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
QC 20100713
-
Group III nitrides, especially gallium nitride (GaN), have many applications. The materials are usually grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) technology. By combining the computational fluid dynamics and kinetic Monte Carlo method, we present a multiscale modeling of fluid dynamics, thermodynamics, and molecular dynamics to study the chemical and physical growth process of GaN in a standard MOCVD reactor, which shows a general agreement with experimental results. The theoretical model thus provides us with a fundamental guideline for optimizing GaN MOCVD growth at the microscopic level.
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Fu, YingKTH,Teoretisk kemi,Theoretical Chemistry(Swepub:kth)u1wnf4xe
(författare)
-
Zhang, R.
(författare)
-
KTHTeoretisk kemi
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Journal of Applied Physics: AIP Publishing103:10, s. 103524-0021-89791089-7550
Internetlänk
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas