SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

onr:"swepub:oai:research.chalmers.se:bf223cfe-58f7-4dc9-a454-e60acb7cb123"
 

Sökning: onr:"swepub:oai:research.chalmers.se:bf223cfe-58f7-4dc9-a454-e60acb7cb123" > Electrical properti...

  • Khosa, Rabia Y.Háskóli Íslands,University of Iceland,Univ Iceland, Iceland; Univ Educ Lahore, Pakistan (författare)

Electrical properties of 4H-SiC MIS capacitors with AlN gate dielectric grown by MOCVD

  • Artikel/kapitelEngelska2019

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • Elsevier BV,2019
  • electronicrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:research.chalmers.se:bf223cfe-58f7-4dc9-a454-e60acb7cb123
  • https://research.chalmers.se/publication/507703URI
  • https://doi.org/10.1016/j.sse.2018.12.016DOI
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-154543URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype
  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype

Anmärkningar

  • Funding Agencies|Icelandic Research Fund; Swedish Foundation for Strategic Research (SSF); Knut and Alice Wallenberg Foundation (KAW)
  • We report on the electrical properties of the AlN/4H-SiC interface using capacitance- and conductance-voltage (CV and GV) analysis of AlN/SiC MIS capacitors. The crystalline AlN layers are made by hot wall MOCVD. CV analysis at room temperature reveals an order of magnitude lower density of interface traps at the AlN/SiC interface than at nitrided SiO2/SiC interfaces. Electron trapping in bulk traps within the AlN is significant when the MIS capacitors are biased into accumulation resulting in a large flatband voltage shift towards higher gate voltage. This process is reversible and the electrons are fully released from the AlN layer if depletion bias is applied at elevated temperatures. Current-voltage (IV) analysis reveals that the breakdown electric field intensity across the AlN dielectric is 3–4 MV/cm and is limited by trap assisted leakage. By depositing an additional SiO2 layer on top of the AlN layer, it is possible to increase the breakdown voltage of the MIS capacitors significantly without having much impact on the quality of the AlN/SiC interface.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Chen, Jr-TaiLinköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)jrtch43 (författare)
  • Pálsson, K.Háskóli Íslands,University of Iceland,Univ Iceland, Iceland (författare)
  • Karhu, RobinLinköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)robka36 (författare)
  • Ul-Hassan, JawadLinköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)jawul47 (författare)
  • Rorsman, Niklas,1964Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology,Chalmers Univ Technol, Sweden(Swepub:cth)rorsman (författare)
  • Sveinbjörnsson, EinarLinköpings universitet,Halvledarmaterial,Tekniska fakulteten,Univ Iceland, Iceland(Swepub:liu)einsv16 (författare)
  • Háskóli ÍslandsUniv Iceland, Iceland; Univ Educ Lahore, Pakistan (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Solid-State Electronics: Elsevier BV153, s. 52-580038-11011879-2405

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy