Träfflista för sökning "WFRF:(Macak K) srt2:(1998-1999)"

Sortera/gruppera träfflistan

Sortering: Träffar per sida:

Numrering	Referens	Omslagsbild	Hitta
1.	Macak, K, et al. (författare) Modeling of the deposition of stoichiometric Al2O3 using nonarcing direct current magnetron sputtering 1998 Ingår i: J Vac Sci Technol A. ; 16:3, s. 1286-1292 Tidskriftsartikel (refereegranskat)
2.	Olsson, MK, et al. (författare) High rate reactive de magnetron sputter deposition of Al2O3 films 1998 Ingår i: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS. - : AMER INST PHYSICS. - 0734-2101. ; 16:2, s. 639-643 Tidskriftsartikel (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)abstract Aluminum oxide films were produced by reactive de magnetron sputtering of Al in Ar+O-2. The composition of the films was characterized by Rutherford backscattering measurements. Stoichiometric films possessed excellent optical properties with a refractive

Skapa referenser, mejla, bekava och länka

Författare/redaktör: Helmersson, U (2); Macak, K (2); Nyberg, Tomas (1); Berg, Sören (1); Hjorvarsson, B (1); Macak, P. (1); visa fler...; Olsson, M K (1); Olsson, MK (1); visa färre...

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy