Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:ri-57941" >
Vertical GaN devices :
Vertical GaN devices : Process and reliability
-
- You, S. (författare)
- imec, Belgium
-
- Geens, K. (författare)
- imec, Belgium
-
- Borga, M. (författare)
- imec, Belgium
-
visa fler...
-
- Liang, H. (författare)
- imec, Belgium
-
- Hahn, H. (författare)
- AIXTRON SE, Germany
-
- Fahle, D. (författare)
- AIXTRON SE, Germany
-
- Heuken, M. (författare)
- AIXTRON SE, Germany
-
- Mukherjee, K. (författare)
- University of Padua, Italy
-
- De Santi, C. (författare)
- University of Padua, Italy
-
- Meneghini, M. (författare)
- University of Padua, Italy
-
- Zanoni, E. (författare)
- University of Padua, Italy
-
- Berg, Martin (författare)
- RISE,Smart hårdvara
-
- Ramvall, Peter (författare)
- RISE,Smart hårdvara
-
- Kumar, Ashutosh (författare)
- RISE,Smart hårdvara
-
- Björk, M. T. (författare)
- Hexagem AB, Sweden
-
- Ohlsson, B. J. (författare)
- Hexagem AB, Sweden
-
- Decoutere, S. (författare)
- imec, Belgium
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Elsevier Ltd, 2021
- 2021
- Engelska.
-
Ingår i: Microelectronics and reliability. - : Elsevier Ltd. - 0026-2714 .- 1872-941X. ; 126
- Relaterad länk:
-
https://doi.org/10.1...
-
visa fler...
-
https://urn.kb.se/re...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- This paper reviews recent progress and key challenges in process and reliability for high-performance vertical GaN transistors and diodes, focusing on the 200 mm CMOS-compatible technology. We particularly demonstrated the potential of using 200 mm diameter CTE matched substrates for vertical power transistors, and gate module optimizations for device robustness. An alternative technology path based on coalescence epitaxy of GaN-on-Silicon is also introduced, which could enable thick drift layers of very low dislocation density. © 2021
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik -- Annan elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering -- Other Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- 200 mm CMOS compatible
- GaN-on-polyAlN
- Power electronics
- Vertical GaN device
- CMOS integrated circuits
- Gallium nitride
- CMOS Compatible
- CMOS-compatible technology
- In-process
- Optimisations
- Performance
- Power-electronics
- Recent progress
- III-V semiconductors
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
You, S.
-
Geens, K.
-
Borga, M.
-
Liang, H.
-
Hahn, H.
-
Fahle, D.
-
visa fler...
-
Heuken, M.
-
Mukherjee, K.
-
De Santi, C.
-
Meneghini, M.
-
Zanoni, E.
-
Berg, Martin
-
Ramvall, Peter
-
Kumar, Ashutosh
-
Björk, M. T.
-
Ohlsson, B. J.
-
Decoutere, S.
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Elektroteknik oc ...
-
och Annan elektrotek ...
- Artiklar i publikationen
-
Microelectronics ...
- Av lärosätet
-
RISE