Sökning: onr:"swepub:oai:research.chalmers.se:9100b815-393a-4c2d-acff-c54512f8ecc3" >
Na0.5K0.5NbO3/SiO2/...
-
Cho, Coong-Rae
(författare)
Na0.5K0.5NbO3/SiO2/Si Thin Film Varactor
- Artikel/kapitelEngelska2000
Förlag, utgivningsår, omfång ...
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:research.chalmers.se:9100b815-393a-4c2d-acff-c54512f8ecc3
-
https://doi.org/10.1063/1.126159DOI
-
https://research.chalmers.se/publication/212386URI
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-19636URI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:art swepub-publicationtype
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
Anmärkningar
-
QC 20100525
-
Perfectly c-axis oriented micrometer thickNa 0.5 K 0.5 NbO 3 (NKN) films have been prepared on a thermally grown ultrathinSiO 2 template layer onto a Si(001) wafer by the pulsed laser deposition technique. A x-ray diffraction θ–2θ scan reveals multiple-cell structuring of single phase NKN film along the polar axis, while filmsgrown onto amorphous ceramic (Corning) glass show a mixture of slightly c-axis oriented NKN and pyrochlore phases. This implies a small amount ofSiO 2 crystallites distributed in an amorphous matrix inherit Si(001) orientation and promotes highly oriented NKN film growth. NKN filmdielectric permittivityε ′ was found to vary from 114.0 to 107.2 in the frequency range 1 kHz–1 MHz, while the resistivity was on the order of2.6×10 10 Ω cm @ 20 kV/cm. The planar interdigital variable reactance device (varactor) based on theNKN/SiO 2 /Si thin film structure possesses a dissipation factor of 0.8% at 1 MHz and zero bias, electrical tunability of 3.1%, and nA order leakage current at 20 V bias at room temperature.
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Koh, Jung-Hyuk
(författare)
-
Grishin, Alex
(författare)
-
Abadei, Saeed,1961Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology
(författare)
-
Gevorgian, Spartak,1948Chalmers tekniska högskola,Chalmers University of Technology(Swepub:cth)spartak
(författare)
-
Grishin, Alexander M.KTH,Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT(Swepub:kth)u179x9xt
(författare)
-
Chalmers tekniska högskolaMikroelektronik och informationsteknik, IMIT
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Applied Physics Letters: AIP Publishing76, s. 1761-0003-69511077-3118
Internetlänk
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas