SAB:Uccd
Sökning: SAB:Uccd > Semiconductor measu...
- 42 av 2684
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Semiconductor measurement technology Interlaboratory study on linewidth measurments for antireflective chromium photomasks /John M. Jerke ..
- BokEngelska1982
Förlag, utgivningsår, omfång ...
- Washington,1982
- 183 s.diagr., ill., tab.
Nummerbeteckningar
- LIBRIS-ID:99795
Kompletterande språkuppgifter
- Språk:engelska
Klassifikation
- UDK:621.315.592(021)
- UDK:53.08(021)
- DDC:537.622 028 7
- Uccdkssb/8 (machine generated)
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
- Jerke, John M. (medarbetare)
- Interlaboratory study on linewidth measurments for antireflective chromium photomasks
Sammanhörande titlar
- Del av/supplement till:Semiconductor measurement technologyWashington, 1974-National Bureau of Standards special publication ; 400:1-
Bibliotekens lokala klassifikation, anmärkningar och ämnesord
- L621.315.592(021)
- L53.08(021)
- LHalvledare: elektroteknik
- LMätteknik
Till lärosätets databas
- 42 av 2684
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Jerke, John M.
- Av lärosätet
- Swepub_uni:_t
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
