Semiconductor measurement technology Interlaboratory study on linewidth measurments for antireflective chromium photomasks

Sökning: onr:"99795" > Semiconductor measu...

LIBRIS Formathandbok (Information om MARC21)

Fältnamn	Indikatorer	Metadata
000		01595cam a22003737a 4500
001		99795
003		SE-LIBR
005		20180604102444.0
008		011211s1982 xxu\|\|\|\|\|\|\|\|\|\|\|000 0\|eng\|c
035		9 990375373X
040		a Te a
041		a eng
080		a 621.315.592(021)
080		a 53.08(021)
082	4	a 537.622 028 7
084		a Uccd2 kssb/8 (machine generated)
245	1 0	a Semiconductor measurement technologyp Interlaboratory study on linewidth measurments for antireflective chromium photomasks /c John M. Jerke ..
264	1	a Washington,c 1982
300		a 183 s.b diagr., ill., tab.
599		a Delarna fileras på huvudseriens subnummer. - Formatering: 245 g) ... w)=seriens subnummer
650	4	a Halvledare: elektroteknik
700	1	a Jerke, John M.4 oth
740	0	a Interlaboratory study on linewidth measurments for antireflective chromium photomasks
772	0 0	t Semiconductor measurement technologyd Washington, 1974-k National Bureau of Standards special publication ; 400:1-w 9900958608
887		a {"@id":"5ng185ch1vrj7cj","modified":"2018-06-04T10:24:44.649+02:00","checksum":"70240906468"}2 librisxl
841		5 La x ab 020110\|\|0000\|\|\|\|4000\|\|\|\|\|\|000000e u
080		5 La 621.315.592(021)
080		5 La 53.08(021)
650	4	5 La Halvledare: elektroteknik
650	4	5 La Mätteknik
852		5 Lb Lh pPj 3521:400
852		5 L8 1.1\cb Lh pPj 3521:, 400:74
866		5 La 1974-x Vissa delar specificerade
887		5 La {"@id":"glr2vphm03cmc99","modified":"2003-01-23T16:34:28+01:00","checksum":"40564237170"}2 librisxl

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.