DDC:543
Sökning: DDC:543 > Comprehensive analy...
- 4 av 4028
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Comprehensive analytical chemistry / edited by G. Svehla. Vol. 20, Photometric methods in inorganic trace analysis / by E. Upor, M. Mohai and Gy. Novák.
- Wilson, Cecil Leeburn (redaktör/utgivare)
- Wilson, David Woodburn (redaktör/utgivare)
- Upor, Endre (författare)
- visa fler...
- Mohai, Magda (författare)
- Novák, Gyözö (författare)
- visa färre...
- ISBN 0444995889
- ISSN 0069-8024 (HELA VERKET)
- Amsterdam : Elsevier, 1985
- Engelska 404 s.
- swepub:Mat__t
Innehållsförteckning
Ämnesord
Stäng
No table of content available
Ämnesord
- Photometry (LCSH)
- Trace elements -- Analysis (LCSH)
- Chemistry, Analytic (bnb)
- chemical analysis (bnb)
- Analytisk kemi
- Spårelementanalys
Nyckelord
- Ucef Analytisk kemi
Publikations- och innehållstyp
- 543 (UDK)
- 543 (DDC)
- 543.085 2 (DDC)
- QD 75
- Ucef (kssb/6)
Hitta via bibliotek
- Comprehensive analytical chemistry / (Sök publikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 4 av 4028
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Wilson, Cecil Le ...
- Wilson, David Wo ...
- Upor, Endre
- Mohai, Magda
- Novák, Gyözö
- Av lärosätet
- Swepub_uni:_t
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
