SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Li Jiantong)
 

Sökning: WFRF:(Li Jiantong) > Graphene for More M...

Graphene for More Moore and More Than Moore applications

Lemme, Max C. (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Vaziri, Sam (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Smith, Anderson D. (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
visa fler...
Li, Jiantong (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Rodriguez, Saul (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Rusu, Ana (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Östling, Mikael (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
visa färre...
 (creator_code:org_t)
IEEE, 2012
2012
Engelska.
Ingår i: IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop, SNW. - : IEEE. - 9781467309943 ; , s. 6243322-
  • Konferensbidrag (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • Graphene has caught the attention of the electronic device community as a potential future option for More Moore and More Than Moore devices and applications. This is owed to its remarkable material properties, which include ballistic conductance over several hundred nanometers or charge carrier mobilities of several 100.000 cm 2/Vs in pristine graphene. Furthermore, standard CMOS technology may be applied to graphene in order to make devices. Integrated graphene devices, however, are performance limited by scattering due to defects in the graphene and its dielectric environment [1, 2] and high contact resistance [3, 4]. In addition, graphene has no energy band gap (Figure 1) and hence graphene MOSFETs (GFETs) cannot be switched off, but instead show ambipolar behaviour [5]. This has steered interest away from logic to analog radio frequency (RF) applications [6, 7]. This talk will systematically compare the expected RF performance of realistic GFETs with current silicon CMOS technology [8]. GFETs slightly lag behind in maximum cut-off frequency F T,max (Figure 2) up to a carrier mobility of 3000 cm 2/Vs, where they can achieve similar RF performance as 65nm silicon FETs. While a strongly nonlinear voltage-dependent gate capacitance inherently limits performance, other parasitics such as contact resistance are expected to be optimized as GFET process technology improves.

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)

Nyckelord

Carrier mobility
CMOS integrated circuits
Contact resistance

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
kon (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy