Selective area heteroepitaxy of InP nanopyramidal frusta on Si for nanophotonics

QC 20130218
InP nanopyramidal frusta on InP and InP precoated Si substrates were grown selectively from nano-imprinted circular openings in silicon dioxide mask using a low pressure hydride vapor phase epitaxy reactor. The grown InP nanopyramidal frusta, octagonal in shape, were characterized by Atomic Force Microscopy, Scanning Electron Microscopy and Photoluminescence. The growth is extremely selective and uniform over the entire patterned area on both substrates. The measured diagonal of the top surface is 30 nm and 90 nm for the nanopyramidal frusta grown from 120 nm and 300 nm diameter openings, respectively. The size and morphology as well as the optical quality of these pyramidal frusta make them suitable templates for quantum dot structures for nano photonics and silicon photonics.

Tommila, J. (författare)
Kataria, HimanshuKTH,Halvledarmaterial, HMA(Swepub:kth)u17q50yc (författare)
Junesand, CarlKTH,Halvledarmaterial, HMA(Swepub:kth)u14rekz5 (författare)
Sun, YantingKTH,Halvledarmaterial, HMA(Swepub:kth)u126yqo4 (författare)
Guina, M. (författare)
Niemi, T. (författare)
Lourdudoss, SebastianKTH,Halvledarmaterial, HMA(Swepub:kth)u16044fg (författare)
KTHHalvledarmaterial, HMA (creator_code:org_t)

Ingår i:Indium Phosphide and Related Materials (IPRM), 2012 International Conference on: IEEE, s. 81-849781467317252

Av författaren/redakt...: Metaferia, Wondw ...; Tommila, J.; Kataria, Himansh ...; Junesand, Carl; Sun, Yanting; Guina, M.; visa fler...; Niemi, T.; Lourdudoss, Seba ...; visa färre...

Om ämnet

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.