SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Östling Mikael)
 

Sökning: WFRF:(Östling Mikael) > (2015-2019) > 5.8-kV Implantation...

5.8-kV Implantation-Free 4H-SiC BJT With Multiple-Shallow-Trench Junction Termination Extension

Elahipanah, Hossein (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Salemi, Arash (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
Zetterling, Carl-Mikael (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
visa fler...
Östling, Mikael (författare)
KTH,Integrerade komponenter och kretsar
visa färre...
 (creator_code:org_t)
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 2015
2015
Engelska.
Ingår i: IEEE Electron Device Letters. - : Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE). - 0741-3106 .- 1558-0563. ; 36:2, s. 168-170
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • Implantation-free 4H-SiC bipolar junction transistors with multiple-shallow-trench junction termination extension have been fabricated. The maximum current gain of 40 at a current density of 370 A/cm(2) is obtained for the device with an active area of 0.065 mm(2). A maximum open-base breakdown voltage (BV) of 5.85 kV is measured, which is 93% of the theoretical BV. A specific ON-resistance (R-ON) of 28 m Omega.cm(2) was obtained.

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)

Nyckelord

4H-SiC
multiple-shallow-trench JTE
implantation-free
high-voltage BJT

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy