SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

id:"swepub:oai:DiVA.org:kth-18857"
 

Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:kth-18857" > Transition between ...

  • Lundin, DanielLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska högskolan (författare)

Transition between the discharge regimes of high power impulse magnetron sputtering and conventional direct current magnetron sputtering

  • Artikel/kapitelEngelska2009

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • 2009-07-31
  • IOP Publishing,2009
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-18857
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-18857URI
  • https://doi.org/10.1088/0963-0252/18/4/045008DOI
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-51382URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • QC 20100525
  • Current and voltage have been measured in a pulsed high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) system for discharge pulses longer than 100 mu s. Two different current regimes could clearly be distinguished during the pulses: (1) a high-current transient followed by (2) a plateau at lower currents. These results provide a link between the HiPIMS and the direct current magnetron sputtering (DCMS) discharge regimes. At high applied negative voltages the high-current transient had the characteristics of HiPIMS pulses, while at lower voltages the plateau values agreed with currents in DCMS using the same applied voltage. The current behavior was found to be strongly correlated with the chamber gas pressure, where increasing gas pressure resulted in increasing peak current and plateau current. Based on these experiments it is suggested here that the high-current transients cause a depletion of the working gas in the area in front of the target, and thereby a transition to a DCMS-like high-voltage, lower current regime.

Ämnesord och genrebeteckningar

  • deposition
  • field
  • NATURAL SCIENCES

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Brenning, NilsKTH,Rymd- och plasmafysik,Royal Institute of Technology(Swepub:kth)u1w9mcft (författare)
  • Jädernäs, DanielLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)danja26 (författare)
  • Larsson, PetterLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)petla68 (författare)
  • Wallin, ErikLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)eriwa85 (författare)
  • Lattemann, MartinaTech University of Darmstadt (författare)
  • Raadu, Michael A.KTH,Rymd- och plasmafysik,Royal Institute Technology(Swepub:kth)u1ajzw7w (författare)
  • Helmersson, UlfLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)ulfhe30 (författare)
  • Linköpings universitetPlasma och ytbeläggningsfysik (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Plasma sources science & technology: IOP Publishing18:40963-02521361-6595

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy