SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Cho H. S.)
 

Sökning: WFRF:(Cho H. S.) > (2000-2004) > High density plasma...

  • Cho, H. (författare)

High density plasma via hole etching in SiC

  • Artikel/kapitelEngelska2001

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • American Vacuum Society,2001
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-20827
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-20827URI
  • https://doi.org/10.1116/1.1359539DOI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • QC 20100525
  • Throughwafer vias up to 100 mum deep were formed in 4H-SiC substrates by inductively coupled plasma etching with SF6/O-2 at a controlled rate of similar to0.6 mum min(-1) and use of Al masks. Selectivities of > 50 for SiC over Al were achieved. Electrical (capacitance-voltage: current-voltage) and chemical (Auger electron spectroscopy) analysis techniques showed that the etching produced only minor changes in reverse breakdown voltage, Schottky barrier height, and near surface stoichiometry of the SiC and had high selectivity over common frontside metallization. The SiC etch rate was a strong function of the incident ion energy during plasma exposure. This process is attractive for power SiC transistors intended for high current, high temperature applications and also for SiC micromachining.

Ämnesord och genrebeteckningar

  • silicon-carbide
  • power devices
  • low-damage
  • chemistries
  • mixtures

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Lee, K. P. (författare)
  • Leerungnawarat, P. (författare)
  • Chu, S. N. G. (författare)
  • Ren, F. (författare)
  • Pearton, S. J. (författare)
  • Zetterling, Carl-MikaelKTH,Mikroelektronik och informationsteknik, IMIT(Swepub:kth)u15o61ns (författare)
  • KTHMikroelektronik och informationsteknik, IMIT (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films: American Vacuum Society19:4, s. 1878-18810734-21011520-8559

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy