SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Klason T)
 

Sökning: WFRF:(Klason T) > Growth, Electrical ...

  • da Silva, A. FerreiraUniv Fed Bahia, Inst Fis, BR-40210340 Salvador, BA, Brazil.,Instituto de Física, Universidade Federal da Bahia, Ondina, Salvador-Ba, 40210-340, Brazil (författare)

Growth, Electrical and Optical Properties of SnO2:F on ZnO, Si and Porous Si Structures

  • Artikel/kapitelEngelska2009

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • CRC PRESS-TAYLOR & FRANCIS GROUP,2009
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-242877
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-242877URI
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-52966URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:kon swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • QC 20190215
  • In this work we have analyzed the optical absorption of the ZnO and SnO2:F (FTO) films and applied them in porous silicon light-emitting diodes. The absorption and energy gap were calculated by employing the projector augmented wave method [1] within the local density approximation and with a modeled on-site self-interaction-like correction potential within the LDA+U-S/C [2]. Experiment and theory show a good agreement when the optical absorption and optical energy gap are considered. A layer of FTO is deposited by spray pyrolysis on top of porous Si (PSi) or ZnO/(PSi) in order to make the LEDs. The morphology and roughness of the films are analyzed by Atomic Force Microscopy before and after the FTO deposition. The electrical and optical properties are studied by characteristics curves J x V, and electroluminescence intensity versus bias.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Castro Meira, M. V.Univ Fed Bahia, Inst Fis, BR-40210340 Salvador, BA, Brazil.;CETEC Univ Fed Reconcavo Bahia, BR-44380000 Cruz Das Almas, BA, Brazil.,Instituto de Física, Universidade Federal da Bahia, Ondina, Salvador-Ba, 40210-340, Brazil, CETEC-Universidade Federal do Recôncavo da Bahia, Cruz das Almas-Ba, 44380-000, Brazil (författare)
  • Baldissera, GustavoKTH,Matematik (Inst.),Materialvetenskap,Department of Materials Science and Engineering, Royal Institute of Technology, SE-100 44 Stockholm, Sweden(Swepub:kth)u10f0l5e (författare)
  • Persson, ClasKTH,Materialvetenskap,Department of Materials Science and Engineering, Royal Institute of Technology, SE-100 44 Stockholm, Sweden(Swepub:kth)u16hf74r (författare)
  • Gutman, N.Hebrew Univ Jerusalem, Racah Inst Phys, IL-91904 Jerusalem, Israel.;Hebrew Univ Jerusalem, Ctr Nanosci & Nanotechnol, IL-91904 Jerusalem, Israel.,Racah Institute of Physics, Center for Nanoscience and Nanotechnology, Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem 91904, Israel (författare)
  • Sa'ar, A.Hebrew Univ Jerusalem, Racah Inst Phys, IL-91904 Jerusalem, Israel.;Hebrew Univ Jerusalem, Ctr Nanosci & Nanotechnol, IL-91904 Jerusalem, Israel. (författare)
  • Klason, P.Gothenburg Univ, Dept Phys, SE-41296 Gothenburg, Sweden.,Department of Physics, Göteborg University, SE-412 96 Göteborg, Sweden (författare)
  • Willander, MagnusLinköpings universitet,Institutionen för teknik och naturvetenskap,Tekniska högskolan(Swepub:liu)magwi72 (författare)
  • Canestraro, CarlaKTH,Materialvetenskap,Department of Materials Science and Engineering, Royal Institute of Technology, SE-100 44 Stockholm, Sweden, Departamento de Física, Universidade Federal do Paraná, Curitiba-PR, 81531-990, Brazil(Swepub:kth)u10j7m3o (författare)
  • Moreno, T. V.Univ Fed Parana, Dept Fis, BR-81531990 Curitiba, Parana, Brazil.,Departamento de Física, Universidade Federal do Paraná, Curitiba-PR, 81531-990, Brazil (författare)
  • Roman, L. S.Univ Fed Parana, Dept Fis, BR-81531990 Curitiba, Parana, Brazil.,Departamento de Física, Universidade Federal do Paraná, Curitiba-PR, 81531-990, Brazil (författare)
  • Saar, A.Institute of Physics, Center for Nanoscience and Nanotechnology, Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem 91904, Israel (författare)
  • Univ Fed Bahia, Inst Fis, BR-40210340 Salvador, BA, Brazil.Instituto de Física, Universidade Federal da Bahia, Ondina, Salvador-Ba, 40210-340, Brazil (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:NANOTECH CONFERENCE & EXPO 2009, VOL 1, TECHNICAL PROCEEDINGS: CRC PRESS-TAYLOR & FRANCIS GROUP, s. 352-+9781439817827

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy