SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-315528"
 

Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:kth-315528" > Operating modes and...

  • Rudolph, M.Leibniz Inst Surface Engn IOM, Permoserstr 15, D-04318 Leipzig, Germany. (författare)

Operating modes and target erosion in high power impulse magnetron sputtering

  • Artikel/kapitelEngelska2022

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • American Vacuum Society,2022
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-315528
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-315528URI
  • https://doi.org/10.1116/6.0001919DOI
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-187479URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • QC 20220707
  • Funding Agencies|Free State of Saxony; European Regional Development Fund [100336119]; Icelandic Research Fund [196141]; Swedish Government Strategic Research Area in Materials Science on Functional Materials at Linkoping University [2009-00971]
  • Magnetron sputtering combines a glow discharge with sputtering from a target that simultaneously serves as a cathode for the discharge. The electrons of the discharge are confined between overarching magnetic field lines and the negatively biased cathode. As the target erodes during the sputter process, the magnetic field strengthens in the cathode vicinity, which can influence discharge parameters with the risk of impairing reproducibility of the deposition process over time. This is of particular concern for high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) as the discharge current and voltage waveforms vary strongly with the magnetic field strength. We here discuss ways to limit the detrimental effect of target erosion on the film deposition process by choosing an appropriate mode of operation for the discharge. The goal is to limit variations of two principal flux parameters, the deposition rate and the ionized flux fraction. As an outcome of the discussion, we recommend operating HiPIMS discharges by maintaining the peak discharge current constant.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Brenning, NilsLinköpings universitet,KTH,Rymd- och plasmafysik,Linköping Univ, Plasma & Coatings Phys Div, IFM Mat Phys, SE-58183 Linköping, Sweden.,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten,KTH Royal Inst Technol, Sweden(Swepub:liu)nilbr83 (författare)
  • Hajihoseini, H.Univ Twente, MESA Inst Nanotechnol, Ind Focus Grp XUV Opt, Drienerlolaan 5, NL-7522 NB Enschede, Netherlands. (författare)
  • Raadu, Michael A.KTH,Rymd- och plasmafysik,KTH Royal Inst Technol, Sweden(Swepub:kth)u1ajzw7w (författare)
  • Fischer, JoelLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)joefi56 (författare)
  • Gudmundsson, Jon Tomas,1965-KTH,Rymd- och plasmafysik,Univ Iceland, Sci Inst, Dunhaga 3, IS-107 Reykjavik, Iceland.,KTH Royal Inst Technol, Sweden; Univ Iceland, Iceland(Swepub:kth)u1q27a34 (författare)
  • Lundin, DanielLinköpings universitet,Plasma och ytbeläggningsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)danlu03 (författare)
  • Leibniz Inst Surface Engn IOM, Permoserstr 15, D-04318 Leipzig, Germany.Rymd- och plasmafysik (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films: American Vacuum Society40:4, s. 043005-0734-21011520-8559

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy