WFRF:(Welch C. C.)
Sökning: WFRF:(Welch C. C.) > (2000-2004) > Highly selective HB...
- Lemme, Max C.,1970-AMO GmbH, AMICA, Aachen, Germany (författare)
Highly selective HBr etch process for fabrication of Triple-Gate nano-scale SOI-MOSFETs
- Artikel/kapitelEngelska2004
Förlag, utgivningsår, omfång ...
- 2004
- printrdacarrier
Nummerbeteckningar
- LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-50515
- https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-50515URI
- https://doi.org/10.1016/j.mee.2004.02.065DOI
Kompletterande språkuppgifter
- Språk:engelska
- Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
- SwePubSwePub
Klassifikation
Anmärkningar
- QC 20120222
- New three-dimensional device concepts are considered necessary for the ultimate scaling of the gate length of metal-oxide-semiconductor field effect transistors (MOSFETs). Both Triple-Gate field effect transistors and FinFETs require a gate etch process with excellent selectivity over the gate oxide material. In this work, a highly selective, anisotropic gate etch process using HBr and O-2 as the reactive gases in an inductively coupled plasma reactive ion etch tool is described. Polysilicon thickness measurements have been taken to calculate etch rate and uniformity. Polysilicon wafers for each experimental condition were given different overetch times and SiO2 losses were plotted against time, with the gradient yielding the SiO2 etch rate. The optimized etch process yields excellent results for nanoscale polysilicon gates.
Ämnesord och genrebeteckningar
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER Nanoteknik hsv//swe
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY Nano-technology hsv//eng
- Triple-Gate MOSFET
- SOI
- HBr
- FinFET
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
- Mollenhauer, T. (författare)
- Gottlob, H. (författare)
- Henschel, W. (författare)
- Efavi, J. (författare)
- Welch, C. (författare)
- Kurz, H. (författare)
- AMO GmbH, AMICA, Aachen, Germany (creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
- Ingår i:Microelectronic Engineering73-74:SI, s. 346-3500167-93171873-5568
Internetlänk
Hitta via bibliotek
- Microelectronic Engineering (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Lemme, Max C., 1 ...
- Mollenhauer, T.
- Gottlob, H.
- Henschel, W.
- Efavi, J.
- Welch, C.
- visa fler...
- Kurz, H.
- visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
- TEKNIK OCH TEKNO ...
- och Nanoteknik
- Artiklar i publikationen
- Microelectronic ...
- Av lärosätet
- Kungliga Tekniska Högskolan
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
