Sökning: WFRF:(Lemme Max C. 1970 ) >
Gentle FUSI NiSi me...
Gentle FUSI NiSi metal gate process for high-k dielectric screening
-
Gottlob, H. D. B. (författare)
-
- Lemme, Max C., 1970- (författare)
- AMO GmbH, AMICA, Aachen, Germany
-
Schmidt, M. (författare)
-
visa fler...
-
Echtermeyer, T. J. (författare)
-
Mollenhauer, T. (författare)
-
Kurz, H. (författare)
-
Cherkaoui, K. (författare)
-
Hurley, P. K. (författare)
-
Newcomb, S. B. (författare)
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- Elsevier BV, 2008
- 2008
- Engelska.
-
Ingår i: Microelectronic Engineering. - : Elsevier BV. - 0167-9317 .- 1873-5568. ; 85:10, s. 2019-2021
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- In this paper, a process flow well suited for screening of novel high-k dielectrics is presented. In vacuo silicon capping of the dielectrics excludes process and handling induced influences especially if hygroscopic materials are investigated. A gentle, low thermal budget process is demonstrated to form metal gate electrodes by turning the silicon capping into a fully silicided nickel silicide. This process enables the investigation of rare earth oxide based high-k dielectrics and specifically their intrinsic material properties using metal oxide semiconductor (MOS) capacitors. We demonstrate the formation of nickel monosilicide electrodes which show smooth interfaces to the lanthanum- and gadolinium-based high-k oxide films. The dielectrics have equivalent oxide thicknesses of EOT = 0.95 nm (lanthanum silicate) and EOT = 0.6 nm (epitaxial gadolinium oxide).
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Nanoteknik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Nano-technology (hsv//eng)
Nyckelord
- FUSI NiSi
- High-k
- Ultrathin dielectric
- Material screening
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Gottlob, H. D. B ...
-
Lemme, Max C., 1 ...
-
Schmidt, M.
-
Echtermeyer, T. ...
-
Mollenhauer, T.
-
Kurz, H.
-
visa fler...
-
Cherkaoui, K.
-
Hurley, P. K.
-
Newcomb, S. B.
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER
-
TEKNIK OCH TEKNO ...
-
och Nanoteknik
- Artiklar i publikationen
-
Microelectronic ...
- Av lärosätet
-
Kungliga Tekniska Högskolan