Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:kth-50540" >
Supercritical dryin...
-
Wahlbrink, T.
(författare)
Supercritical drying process for high aspect-ratio HSQ nano-structures
- Artikel/kapitelEngelska2006
Förlag, utgivningsår, omfång ...
-
Elsevier BV,2006
-
printrdacarrier
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:kth-50540
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-50540URI
-
https://doi.org/10.1016/j.mee.2006.01.026DOI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
-
Ämneskategori:art swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
QC 20120301
-
Supercritical resist drying allows the fabrication of high aspect-ratio (AR) resist patterns. The potential of this drying technique to increase the maximum achievable AR and the resolution of the overall lithographic process is analyzed for hydrogen silsesquioxane (HSQ). The maximum achievable AR is doubled compared to conventional nitrogen blow drying. Furthermore, the resolution is improved significantly.
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Kupper, D.
(författare)
-
Georgiev, Y. M.
(författare)
-
Bolten, J.
(författare)
-
Moller, M.
(författare)
-
Lemme, Max C.,1970-AMO GmbH, AMICA, Aachen, Germany(Swepub:kth)u1m2eozy
(författare)
-
Kurz, H.
(författare)
-
AMO GmbH, AMICA, Aachen, Germany
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Microelectronic Engineering: Elsevier BV83:4-9, s. 1124-11270167-93171873-5568
Internetlänk
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas