SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

(WFRF:(Berger Klaus))
 

Sökning: (WFRF:(Berger Klaus)) > (2010-2014) > Photo-induced C-C r...

Photo-induced C-C reactions on insulators towards photolithography of graphene nanoarchitectures

Palma, Carlos-Andres (författare)
Technishe Universität München, Garching, Germany
Diller, Katharina (författare)
Technishe Universität München, Garching, Germany
Berger, Reinhard (författare)
Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Mainz, Germany
visa fler...
Welle, Alexander (författare)
Karlsruher Institut für Technologie, Eggenstein-Leopoldshafen, Germany
Björk, Jonas (författare)
Linköpings universitet,Beräkningsfysik,Tekniska högskolan
Cabellos, Jose Luis Cabellos (författare)
Universidad del País Vasco UPV/EHU, San Sebastián, Spain
Mowbray, Duncan John (författare)
Universidad del País Vasco UPV/EHU, San Sebastián, Spain
Papageorgiou, Anthoula C. (författare)
Technishe Universität München, Garching, Germany
Ivleva, Natalia P. (författare)
Technische Universität München, München, Germany
Matich, Sonja (författare)
Walter Schottky Institut, Garching, Germany
Margapoti, Emanuela (författare)
Walter Schottky Institut, Garching, Germany
Niesser, Reinhard (författare)
Technische Universität München, Germany
Menges, Bernhard (författare)
Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Mainz, Germany
Reichert, Joachim (författare)
Technishe Universität München, Garching, Germany
Feng, Xinliang (författare)
Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Mainz, Germany
Räder, Hans Joachim (författare)
Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Mainz, Germany
Klappenberger, Florian (författare)
Technishe Universität München, Garching, Germany
Rubio, Angel (författare)
Universidad del País Vasco UPV/EHU, San Sebastián, Spain
Müllen, Klaus (författare)
Max-Planck-Institut für Polymerforschung, Mainz, Germany
Barth, Johannes V. (författare)
Technishe Universität München, Garching, Germany
visa färre...
 (creator_code:org_t)
2014-03-12
2014
Engelska.
Ingår i: Journal of the American Chemical Society. - : American Chemical Society (ACS). - 0002-7863 .- 1520-5126. ; 136, s. 4651-4658
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • On-surface chemistry for atomically precise sp2 macromolecules requires top-down lithographic methods on insulating surfaces in order to pattern the long-range complex architectures needed by the semiconductor industry. Here, we fabricate sp2-carbon nm-thin films on insulators and under ultra-high vacuum (UHV) conditions from photo-coupled brominated precursors. We reveal that covalent coupling is initiated by C-Br bond cleavage through photon energies exceeding 4.4 eV, as monitored by laser desorption ionization (LDI) mass spectrometry (MS) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Density functional theory (DFT) gives insight into the mechanisms of C-Br scission and C-C coupling processes. Further, unreacted material can be sublimed and the coupled sp2-carbon precursors can be graphitized by e-beam treatment at 500°C, demonstrating promising applications in photolithography of graphene nanoarchitectures. Our results present UV-induced reactions on insulators for the formation of all sp2-carbon architectures, thereby converging top-down lithography and bottom-up on-surface chemistry into technology.

Ämnesord

NATURVETENSKAP  -- Kemi -- Organisk kemi (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Chemical Sciences -- Organic Chemistry (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Kemi -- Fysikalisk kemi (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Chemical Sciences -- Physical Chemistry (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Kemi -- Polymerkemi (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Chemical Sciences -- Polymer Chemistry (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Kemi -- Teoretisk kemi (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Chemical Sciences -- Theoretical Chemistry (hsv//eng)

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy