Sökning: WFRF:(Fager Hanna) >
Hf-Al-Si-N multilay...
-
Fager, HannaLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
(författare)
Hf-Al-Si-N multilayers deposited by reactive magnetron sputtering from a single Hf0.6Al0.2Si0.2 target using high-flux, low-energy modulated substrate bias : film growth and properties
Förlag, utgivningsår, omfång ...
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:liu-106575
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-106575URI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:vet swepub-contenttype
-
Ämneskategori:ovr swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
Hf1−x−yAlxSiyN (0≤x≤0.14, 0≤y≤0.13) single layers and multilayer films are grown on Si(001) at a substrate temperature Ts=250 °C using ultrahigh vacuum magnetically-unbalanced reactive magnetron sputtering from a single Hf0.6Al0.2Si0.2 target in a 5%-N2/Ar atmosphere at a total pressure of 20 mTorr (2.67 Pa). The composition and nanostructure of Hf1−x−yAlxSiyN is controlled during growth by varying the ion energy (Ei) of the ions incident at the film surface, keeping the ion-to-metal flux ratio (Ji/JMe) constant at 8. By sequentially switching Ei between 10 and 40 eV, Hf0.77Al0.10Si0.13N/Hf0.78Al0.14Si0.08N multilayers with bilayer periods Λ = 2-20 nm are grown, in which the Si2p bonding state changes from predominantly Si-Si bonds for films grown at Ei = 10 eV, to mainly Si-N bonds at Ei = 40 eV. Multilayer hardness values increase monotonically from 20 GPa with Λ = 20 nm to 27 GPa with Λ = 2 nm, while multilayer fracture toughness increases with increasing Λ. Multilayers with Λ = 10 nm have the optimized property combination of being bothrelatively hard, H∼24 GPa, and fracture tough.
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Howe, B.M.Air Force Research Laboratory, Materials and Manufacturing Directorate, Wright-Patterson AFB, Ohio, USA
(författare)
-
Greczynski, GrzegorzLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)grzgr49
(författare)
-
Jensen, JensLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)jenje80
(författare)
-
Mei, A. R. B.Frederick Seitz Materials Research Laboratory and Materials Science Department, University of Illinois, USA
(författare)
-
Lu, JunLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)junlu07
(författare)
-
Greene, J.E.Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)josgr17
(författare)
-
Petrov, IvanLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)ivape26
(författare)
-
Hultman, LarsLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)larhu75
(författare)
-
Linköpings universitetTunnfilmsfysik
(creator_code:org_t)
Internetlänk