SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
 

Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101 > (2010-2024) > Controlling the bor...

Controlling the boron-to-titanium ratio in magnetron-sputter-deposited TiBx thin films

Petrov, Ivan (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten,University of Illinois, IL 61801 USA
Hall, Allen (författare)
University of Illinois, IL 61801 USA; University of Illinois, IL 61801 USA
Mei, Antonio B. (författare)
University of Illinois, IL 61801 USA
visa fler...
Nedfors, Nils (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Zhirkov, Igor (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Rosén, Johanna (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Reed, Amber (författare)
Mat and Mfg Directorate, OH 45431 USA
Howe, Brandon (författare)
Mat and Mfg Directorate, OH 45431 USA
Greczynski, Grzegorz (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Birch, Jens (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Hultman, Lars (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Greene, Joseph E (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten,University of Illinois, IL 61801 USA; University of Illinois, IL 61801 USA; University of Illinois, IL 61801 USA
visa färre...
 (creator_code:org_t)
A V S AMER INST PHYSICS, 2017
2017
Engelska.
Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - : A V S AMER INST PHYSICS. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 35:5
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • Magnetron sputter-deposited TiBx films grown from TiB2 targets are typically highly overstoichiometric with x ranging from 3.5 to 2.4 due to differences in Ti and B preferential ejection angles and gasphase scattering during transport between the target and the substrate. The authors show that the use of highly magnetically unbalanced magnetron sputtering leads to selective ionization of sputter-ejected Ti atoms which are steered via an external magnetic field to the film, thus establishing control of the B/Ti ratio with the ability to obtain stoichiometric TiB2 films over a wide range in Ar sputtering pressures. (C) 2017 American Vacuum Society.

Ämnesord

NATURVETENSKAP  -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy