Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
> (2010-2024) >
Controlling the bor...
Controlling the boron-to-titanium ratio in magnetron-sputter-deposited TiBx thin films
-
- Petrov, Ivan (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten,University of Illinois, IL 61801 USA
-
- Hall, Allen (författare)
- University of Illinois, IL 61801 USA; University of Illinois, IL 61801 USA
-
- Mei, Antonio B. (författare)
- University of Illinois, IL 61801 USA
-
visa fler...
-
- Nedfors, Nils (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Zhirkov, Igor (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Rosén, Johanna (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Reed, Amber (författare)
- Mat and Mfg Directorate, OH 45431 USA
-
- Howe, Brandon (författare)
- Mat and Mfg Directorate, OH 45431 USA
-
- Greczynski, Grzegorz (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Birch, Jens (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Hultman, Lars (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
-
- Greene, Joseph E (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten,University of Illinois, IL 61801 USA; University of Illinois, IL 61801 USA; University of Illinois, IL 61801 USA
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- A V S AMER INST PHYSICS, 2017
- 2017
- Engelska.
-
Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - : A V S AMER INST PHYSICS. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 35:5
- Relaterad länk:
-
https://urn.kb.se/re...
-
visa fler...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Magnetron sputter-deposited TiBx films grown from TiB2 targets are typically highly overstoichiometric with x ranging from 3.5 to 2.4 due to differences in Ti and B preferential ejection angles and gasphase scattering during transport between the target and the substrate. The authors show that the use of highly magnetically unbalanced magnetron sputtering leads to selective ionization of sputter-ejected Ti atoms which are steered via an external magnetic field to the film, thus establishing control of the B/Ti ratio with the ability to obtain stoichiometric TiB2 films over a wide range in Ar sputtering pressures. (C) 2017 American Vacuum Society.
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Fysik -- Den kondenserade materiens fysik (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Physical Sciences -- Condensed Matter Physics (hsv//eng)
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas
- Av författaren/redakt...
-
Petrov, Ivan
-
Hall, Allen
-
Mei, Antonio B.
-
Nedfors, Nils
-
Zhirkov, Igor
-
Rosén, Johanna
-
visa fler...
-
Reed, Amber
-
Howe, Brandon
-
Greczynski, Grze ...
-
Birch, Jens
-
Hultman, Lars
-
Greene, Joseph E
-
visa färre...
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
-
NATURVETENSKAP
-
och Fysik
-
och Den kondenserade ...
- Artiklar i publikationen
-
Journal of Vacuu ...
- Av lärosätet
-
Linköpings universitet