Sökning: WFRF:(Jansson Per) >
Structural, electri...
-
Eklund, PerLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
(författare)
Structural, electrical, and mechanical properties of nc-TiC/a-SiC nanocomposite thin films
- Artikel/kapitelEngelska2005
Förlag, utgivningsår, omfång ...
-
American Vacuum Society,2005
-
printrdacarrier
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:liu-14473
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-14473URI
-
https://doi.org/10.1116/1.2131081DOI
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-21045URI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
-
Ämneskategori:art swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
We have synthesized Ti–Si–C nanocomposite thin films by dc magnetron sputtering from a Ti3SiC2 compound target in an Ar discharge on Si(100), Al2O3(0001), and Al substrates at temperatures from room temperature to 300 °C. Electron microscopy, x-ray diffraction, and x-ray photoelectron spectroscopy showed that the films consisted of nanocrystalline (nc-) TiC and amorphous (a-) SiC, with the possible presence of a small amount of noncarbidic C. The growth mode was columnar, yielding a nodular film-surface morphology. Mechanically, the films exhibited a remarkable ductile behavior. Their nanoindentation hardness and E-modulus values were 20 and 290 GPa, respectively. The electrical resistivity was 330 µ cm for optimal Ar pressure (4 mTorr) and substrate temperature (300 °C). The resulting nc-TiC/a-SiC films performed well as electrical contact material. These films' electrical-contact resistance against Ag was remarkably low, 6 µ at a contact force of 800 N compared to 3.2 µ for Ag against Ag. The chemical stability of the nc-TiC/a-SiC films was excellent, as shown by a Battelle flowing mixed corrosive-gas test, with no N, Cl, or S contaminants entering the bulk of the films.
Ämnesord och genrebeteckningar
-
NATURVETENSKAP Kemi Oorganisk kemi hsv//swe
-
NATURAL SCIENCES Chemical Sciences Inorganic Chemistry hsv//eng
-
titanium compounds
-
silicon compounds
-
wide band gap semiconductors
-
nanocomposites
-
amorphous semiconductors
-
thin films
-
sputter deposition
-
electron microscopy
-
X-ray diffraction
-
X-ray photoelectron spectra
-
surface morphology
-
ductility
-
indentation
-
hardness
-
electrical resistivity
-
electrical contacts
-
contact resistance
-
TECHNOLOGY
-
TEKNIKVETENSKAP
-
Inorganic chemistry
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Emmerlich, JensLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)jenem14
(författare)
-
Högberg, HansLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)hanho47
(författare)
-
Wilhelmsson, OlaUppsala universitet,Institutionen för materialkemi,Oorganisk kemi,oorganisk kemi,Department of Materials Chemistry, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Sweden(Swepub:uu)olwil451
(författare)
-
Isberg, PeterLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)petis83
(författare)
-
Birch, JensLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)jenbi91
(författare)
-
Persson, Per O. Å.Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)perpe25
(författare)
-
Jansson, UlfUppsala universitet,Institutionen för materialkemi,Oorganisk kemi,oorganisk kemi,Department of Materials Chemistry, The Ångström Laboratory, Uppsala University, Sweden(Swepub:uu)uja03434
(författare)
-
Hultman, LarsLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)larhu75
(författare)
-
Linköpings universitetTunnfilmsfysik
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Journal of Vacuum Science & Technology B: American Vacuum Society23:6, s. 2486-24951071-10231520-8567
-
Ingår i:Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures: American Vacuum Society23:6, s. 2486-24950734-211X
Internetlänk
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas