L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101 > (2010-2024) > Effect of synchroni...
- 92 av 142
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
- Nedfors, NilsLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten (författare)
Effect of synchronized bias in the deposition of TiB2 thin films using high power impulse magnetron sputtering
- Artikel/kapitelEngelska2018
Förlag, utgivningsår, omfång ...
- A V S AMER INST PHYSICS,2018
- printrdacarrier
Nummerbeteckningar
- LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:liu-148103
- https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-148103URI
- https://doi.org/10.1116/1.5003194DOI
Kompletterande språkuppgifter
- Språk:engelska
- Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
- SwePubSwePub
Klassifikation
Anmärkningar
- Funding Agencies|Swedish Research Council (VR) [642-2013-8020]; Knut and Alice Wallenberg (KAW) Foundation [KAW 2015.0043]
- Titanium diboride thin films have been deposited from a compound TiB2 target on Si(001) substrates at a temperature of 500 degrees C using high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) at a frequency of 1000 Hz and pulse lengths of 20 and 40 mu s. A -60V bias pulse of different pulse length was applied at different time delay relative to the HiPIMS pulse. The average energy per deposited species, amp;lt; E-D amp;gt; = E-i(J(i)/J(t)), where E-i is the average ion energy and J(i)/J(t) is the ratio of the ion bombarding flux to the total flux of deposited species, is strongly dependent on bias mode. A change in preferred orientation from (101) to (001) is observed when amp;lt; E-D amp;gt; increase above 50 eV. The limited adatom mobility at amp;lt; E-D amp;gt; below 50 eV promote growth of fast growing planes resulting in a (101) texture, while amp;lt; E-D amp;gt; above 50 eV supply sufficient energy for development of the thermodynamically more favorable (001) texture. A linear increase in compressive residual stress with the increase in amp;lt; E-D amp;gt; is also found, due to more intensive Ar+ ion bombardment. Analysis of charge-state-resolved plasma chemistry and ion energy shows that the total flux of bombarding ions contains a higher fraction of B+ when the bias is applied in synchronous with the HiPIMS pulse instead of after, resulting in a lower residual stress at similar values of amp;lt; E-D amp;gt; (cf. -2.0 +/- 0.2 and -2.6 +/- 0.1 GPa). This study shows that use of a bias synchronized in different modes relative to the HiPIMS pulse, can be used as a tool to control amp;lt; E-D amp;gt; and to some extent the type of bombarding species, and hence the microstructure of TiB2 thin films. Published by the AVS.
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
- Vozniy, OleksiyLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)olevo77 (författare)
- Rosén, JohannaLinköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten(Swepub:liu)johro07 (författare)
- Linköpings universitetTunnfilmsfysik (creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
- Ingår i:Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films: A V S AMER INST PHYSICS36:30734-21011520-8559
Internetlänk
Hitta via bibliotek
- Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 92 av 142
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Nedfors, Nils
- Vozniy, Oleksiy
- Rosén, Johanna
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
- NATURVETENSKAP
- och Fysik
- och Den kondenserade ...
- Artiklar i publikationen
- Journal of Vacuu ...
- Av lärosätet
- Linköpings universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
