WFRF:(Harsta A.)
Sökning: WFRF:(Harsta A.) > Atomic layer deposi...
Atomic layer deposition of Ta2O5 using the TaI 5 and O2 precursor combination
-
- Sundqvist, J. (författare)
- Uppsala universitet,Institutionen för materialkemi,Department of Materials Chemistry, Uppsala University, Box 538, SE-751 21 Uppsala, Sweden
-
- Hogberg, H. (författare)
- Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska högskolan
-
- Harsta, A. (författare)
- Uppsala universitet,Materialkemi GU,Hårsta, A., Department of Materials Chemistry, Uppsala University, Box 538, SE-751 21 Uppsala, Sweden
- (creator_code:org_t)
- Wiley, 2003
- 2003
- Engelska.
- Ingår i: Chemical Vapor Deposition. - : Wiley. - 0948-1907 .- 1521-3862. ; 9:5, s. 245-248
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- Thin films of tantalum oxide have been deposited on Si(100) substrates using atomic layer deposition (ALD) employing the TaI5 and O 2 precursor combination. Growth was studied in the temperature region 400 to 700°C. The resulting films were found to be iodine-free above 450°C, and consisted of the polycrystalline orthorhombic ß-Ta 2O5 phase. The growth rate was found to be strongly dependent on the deposition temperature, reaching a maximum of 0.17 nm cycle-1 at 600°C.
Ämnesord
- NATURVETENSKAP -- Kemi -- Oorganisk kemi (hsv//swe)
- NATURAL SCIENCES -- Chemical Sciences -- Inorganic Chemistry (hsv//eng)
Nyckelord
- NATURAL SCIENCES
- NATURVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- Chemical Vapor Deposition (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Sundqvist, J.
- Hogberg, H.
- Harsta, A.
- Om ämnet
-
- NATURVETENSKAP
- NATURVETENSKAP
- och Kemi
- och Oorganisk kemi
- Artiklar i publikationen
- Chemical Vapor D ...
- Av lärosätet
- Linköpings universitet
- Uppsala universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
