L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101 > Low temperature dep...
- 104 av 243
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Low temperature deposition of a-Al2O3 thin films by sputtering using a Cr2O3 template
-
- Jin, P. (författare)
- National Institute of AIST, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Nagoya, 463-8560, Japan
-
- Xu, G. (författare)
- National Institute of AIST, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Nagoya, 463-8560, Japan
-
- Tazawa, M. (författare)
- National Institute of AIST, 2266-98 Anagahora, Shimoshidami, Nagoya, 463-8560, Japan
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- American Vacuum Society, 2002
- 2002
- Engelska.
- Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - : American Vacuum Society. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 20:6, s. 2134-2136
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- A description about low temperature deposition of a-Al2O3 thin films by sputtering was presented. Cr2O3 thin layer was used as a template. Nanoindentation was used to study the mechanical properties of the deposited films. Calculations were made to obtain the hardness and Young's modulus of the films.
Nyckelord
- TECHNOLOGY
- TEKNIKVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 104 av 243
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Jin, P.
- Xu, G.
- Tazawa, M.
- Yoshimura, K.
- Music, Denis
- Alami, Jones
- visa fler...
- Helmersson, Ulf
- visa färre...
- Artiklar i publikationen
- Journal of Vacuu ...
- Av lärosätet
- Linköpings universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
