SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Xia Ni)
 

Sökning: WFRF:(Xia Ni) > Luminescence and mi...

  • Duteil, F. (författare)

Luminescence and microstructure of Er/O co-doped Si structures grown by MBE using Er and SiO evaporation

  • Artikel/kapitelEngelska2000

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • 2000
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:liu-47578
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-47578URI
  • https://doi.org/10.1016/S1369-8001(00)00075-5DOI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • Er and O co-doped Si structures have been prepared using molecular-beam epitaxy (MBE) with fluxes of Er and O obtained from Er and silicon monoxide (SiO) evaporation in high-temperature cells. The incorporation of Er and O has been studied for concentrations of up to 2×1020 and 1×1021 cm-3, respectively. Surface segregation of Er can take place, but with O co-doping the segregation is suppressed and Er-doped layers without any indication of surface segregation can be prepared. Si1-xGex and Si1-yCy layers doped with Er/O during growth at different substrate temperatures show more defects than corresponding Si layers. Strong emission at 1.54µm associated with the intra-4f transition of Er3+ ions is observed in electroluminescence (EL) at room temperature in reverse-biased p-i-n-junctions. To optimize the EL intensity we have varied the Er/O ratio and the temperature during growth of the Er/O-doped layer. Using an Er-concentration of around 1×1020 cm-3 we find that Er/O ratios of 1:2 or 1:4 give higher intensity than 1:1 while the stability with respect to breakdown is reduced for the highest used O concentrations. For increasing growth temperatures in the range 400-575 °C there is an increase in the EL intensity. A positive effect of post-annealing on the photoluminescence intensity has also been observed.

Ämnesord och genrebeteckningar

  • TECHNOLOGY
  • TEKNIKVETENSKAP

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Du, Chun-XiaLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Institutionen för fysik, kemi och biologi(Swepub:liu)chudu39 (författare)
  • Joelsson, K.B. (författare)
  • Persson, PerLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik(Swepub:liu)perpe25 (författare)
  • Hultman, LarsLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik(Swepub:liu)larhu75 (författare)
  • Pozina, GaliaLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial(Swepub:liu)galpo50 (författare)
  • Ni, Wei-XinLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Yt- och Halvledarfysik(Swepub:liu)weini41 (författare)
  • Hansson, GöranLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Yt- och Halvledarfysik(Swepub:liu)gorha51 (författare)
  • Linköpings universitetTekniska högskolan (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Materials Science in Semiconductor Processing3:5-6, s. 523-5281369-80011873-4081

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy