L773:1520 8559 OR L773:0734 2101
Sökning: L773:1520 8559 OR L773:0734 2101 > Ionized sputter dep...
- 134 av 243
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Ionized sputter deposition using an extremely high plasma density pulsed magnetron discharge
- Macak, K. (författare)
- Kouznetsov, V. (författare)
-
- Schneider, Jochen (författare)
- Linköpings universitet,Tekniska högskolan,Institutionen för fysik, kemi och biologi
- visa fler...
- visa färre...
- (creator_code:org_t)
- American Vacuum Society, 2000
- 2000
- Engelska.
- Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - : American Vacuum Society. - 0734-2101 .- 1520-8559. ; 18:4 II, s. 1533-1537
- Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract
Ämnesord
Stäng
- A high power density pulsed plasma discharge for ionized sputter deposition is studied. The temporal evolution of the plasma ion composition in high power pulsed magnetron sputtering is investigated and shows that Ar ions dominated the beginning of the pulse. As time elapsed, metal ions are detected and finally dominated the ion composition.
Nyckelord
- TECHNOLOGY
- TEKNIKVETENSKAP
Publikations- och innehållstyp
- ref (ämneskategori)
- art (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
- Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films (Sök värdpublikationen i LIBRIS)
Till lärosätets databas
- 134 av 243
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Hitta mer i SwePub
- Av författaren/redakt...
- Macak, K.
- Kouznetsov, V.
- Schneider, Joche ...
- Helmersson, Ulf
- Petrov, I.
- Artiklar i publikationen
- Journal of Vacuu ...
- Av lärosätet
- Linköpings universitet
Sök utanför SwePub
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
- Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
- LIBRIS.kb.se
