SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-49550"
 

Sökning: onr:"swepub:oai:DiVA.org:liu-49550" > Effect of Si doping...

  • Paskova, TanjaLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Institutionen för fysik, kemi och biologi (författare)

Effect of Si doping of metalorganic chemical vapor deposition-GaN templates on the defect arrangement in hydride vapor phase epitaxy-GaN overgrown layers

  • Artikel/kapitelEngelska2000

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • 2000
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:liu-49550
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-49550URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • Two different types of dislocation arrangements have been observed in hydride vapor-phase epitaxial GaN films grown on sapphire substrates using both undoped and Si-doped GaN templates grown by metalorganic chemical vapor deposition: (i) predominantly straight threading dislocations parallel to the [0001] direction in the layer grown on an undoped template, and (ii) a network of interacting dislocations of edge, screw, and mixed character in the layer grown on a Si-doped template. The two types of defect distribution result in essentially different surface morphologies, respectively: (i) low-angle grain boundaries formed by pure edge dislocations around spiral grown hillocks, and (ii) smooth surface intersected by randomly distributed dislocations. The Si doping of the GaN templates was found to enhance defect interaction in the templates and to enable a reduction of the dislocation density in the overgrown thick GaN films, although it does not lead to an improvement of the overall structural properties of the material. (C) 2000 American Institute of Physics. [S0021-8979(00)08422-X].

Ämnesord och genrebeteckningar

  • TECHNOLOGY
  • TEKNIKVETENSKAP

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Valcheva, ELinkoping Univ, Dept Phys & Measurement Technol, S-58183 Linkoping, Sweden Aixtron AG, D-52072 Aachen, Germany (författare)
  • Birch, JensLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik(Swepub:liu)jenbi91 (författare)
  • Tungasmita, SukkanesteLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Institutionen för fysik, kemi och biologi(Swepub:liu)suktu97 (författare)
  • Persson, PerLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Tunnfilmsfysik(Swepub:liu)perpe25 (författare)
  • Beccard, RLinkoping Univ, Dept Phys & Measurement Technol, S-58183 Linkoping, Sweden Aixtron AG, D-52072 Aachen, Germany (författare)
  • Heuken, MLinkoping Univ, Dept Phys & Measurement Technol, S-58183 Linkoping, Sweden Aixtron AG, D-52072 Aachen, Germany (författare)
  • Monemar, BoLinköpings universitet,Tekniska högskolan,Halvledarmaterial(Swepub:liu)bomo46 (författare)
  • Linköpings universitetTekniska högskolan (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Journal of Applied Physics88:10, s. 5729-57320021-89791089-7550

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy