SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Eklund Per 1977 )
 

Sökning: WFRF:(Eklund Per 1977 ) > Preparation and tun...

Preparation and tunable optical properties of amorphous AlSiO thin films

Magnusson, Roger, 1977- (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Paul, Biplab, 1980- (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Eklund, Per, Docent, 1977- (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
visa fler...
Greczynski, Grzegorz, 1973- (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Birch, Jens, 1960- (författare)
Linköpings universitet,Tunnfilmsfysik,Tekniska fakulteten
Jonson, Bo, 1958- (författare)
Linnéuniversitetet,Institutionen för byggd miljö och energiteknik (BET),Avancerade material,Glass group,School of Engineering, Department of Built Environment and Energy Technology, Linnæus University, Växjö, Sweden
Ali, Sharafat, Associate Professor, 1976- (författare)
Linnéuniversitetet,Institutionen för byggd miljö och energiteknik (BET),Avancerade material,Glass group,School of Engineering, Department of Built Environment and Energy Technology, Linnæus University, Växjö, Sweden
visa färre...
 (creator_code:org_t)
Elsevier, 2021
2021
Engelska.
Ingår i: Vacuum. - : Elsevier. - 0042-207X .- 1879-2715. ; 187
  • Tidskriftsartikel (refereegranskat)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • Thin films in the aluminosilicate (AlSiO) system containing up to 31 at. % Al and 23 at. % Si were prepared by reactive RF magnetron co-sputtering in order to investigate the dependence of film formation and optical properties on substrate temperature and Si and Al contents. The obtained films were amorphous with smooth microstructure. The growth rate at different substrate temperatures ranged from 1.2 to 3.3 nm/min and increase with increasing the Si target power. The roughness decreases and thickness increases with increasing Si content. The thickness of the films grown at a deposition temperature of 100 °C is found to be higher than the films deposited at 300 and 500 °C. The AlSiO-coated glasses have a higher transmission in the visible region than the uncoated glass. The spectroscopic ellipsometry analysis reveals that the refractive index value decreased with decreasing the Al content, having extinction coefficient values of zero in the measured spectral region and band gap values ≥ 3.4 eV. The obtained thin films have over 90% transmittance in the visible range and no systematic variation of transmittance was observed with substrate temperature. The results suggest that glass substrate coated with AlSiO thin films have improved optical properties. 

Ämnesord

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Kemiteknik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Chemical Engineering (hsv//eng)
TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Materialteknik -- Keramteknik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Materials Engineering -- Ceramics (hsv//eng)
TEKNIK OCH TEKNOLOGIER  -- Materialteknik -- Bearbetnings-, yt- och fogningsteknik (hsv//swe)
ENGINEERING AND TECHNOLOGY  -- Materials Engineering -- Manufacturing, Surface and Joining Technology (hsv//eng)
NATURVETENSKAP  -- Kemi -- Oorganisk kemi (hsv//swe)
NATURAL SCIENCES  -- Chemical Sciences -- Inorganic Chemistry (hsv//eng)

Nyckelord

Al-Si-O thin films; Sputtering; High Al content; Extinction coefficient; Refractive index; Mueller matrix ellipsometry
Glasteknologi
Glass Technology
Kemi
Chemistry
Condensed Matter Physics
Kondenserade materians fysik

Publikations- och innehållstyp

ref (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

  • Vacuum (Sök värdpublikationen i LIBRIS)

Till lärosätets databas

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy