Room-temperature weak ferromagnetism of amorphous HfAlOx thin films deposited by pulsed laser deposition

The room-temperature weak ferromagnetism of amorphous HfAlOx thin films deposited by pulsed laser deposition on various substrates in oxygen-defective ambient is demonstrated. The magnetization is independent of film thickness, but depends on substrates and deposition temperatures. A magnetic moment of similar to 0.26 mu(B) per HfAlOx f.u. is recorded for HfAlOx films deposited under optimized conditions [deposited at 600 degrees C on (001) sapphire in high vacuum]. It is argued that interfacial defects are one of the possible sources of the weak ferromagnetism. (c) 2006 American Institute of Physics.

Liu, Q. M.Nanjing University, Peoples R China (författare)
Gao, FengLinköpings universitet,Biomolekylär och Organisk Elektronik,Tekniska högskolan(Swepub:liu)fenga88 (författare)
Lu, L. Y.Nanjing University, Peoples R China (författare)
Liu, J. -M.Nanjing University, Peoples R China (författare)
Nanjing University, Peoples R ChinaBiomolekylär och Organisk Elektronik (creator_code:org_t)

Ingår i:Applied Physics Letters: American Institute of Physics (AIP)89:24, s. 242504-0003-69511077-3118

Av författaren/redakt...: Qiu, X. Y.; Liu, Q. M.; Gao, Feng; Lu, L. Y.; Liu, J. -M.

Om ämnet

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.