Sökning: WFRF:(Persson Lars Erik) >
High-Frequency Perf...
High-Frequency Performance of Self-Aligned Gate-Last Surface Channel In0.53Ga0.47As MOSFET
-
- Egard, Mikael (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Ohlsson, Lars (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Ärlelid, Mats (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
visa fler...
-
- Persson, Karl-Magnus (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH,Solid State Physics,Department of Physics,Faculty of Engineering, LTH
-
- Borg, Mattias (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Solid State Physics,Department of Physics,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Lenrick, Filip (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Centrum för analys och syntes,Kemiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Centre for Analysis and Synthesis,Department of Chemistry,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Wallenberg, Reine (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Centrum för analys och syntes,Kemiska institutionen,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Centre for Analysis and Synthesis,Department of Chemistry,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH
-
- Lind, Erik (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH,Solid State Physics,Department of Physics,Faculty of Engineering, LTH
-
- Wernersson, Lars-Erik (författare)
- Lund University,Lunds universitet,Institutionen för elektro- och informationsteknik,Institutioner vid LTH,Lunds Tekniska Högskola,Fasta tillståndets fysik,Fysiska institutionen,Department of Electrical and Information Technology,Departments at LTH,Faculty of Engineering, LTH,Solid State Physics,Department of Physics,Faculty of Engineering, LTH
-
visa färre...
-
(creator_code:org_t)
- 2012
- 2012
- Engelska.
-
Ingår i: IEEE Electron Device Letters. - 0741-3106. ; 33:3, s. 369-371
- Relaterad länk:
-
http://dx.doi.org/10...
-
visa fler...
-
https://lup.lub.lu.s...
-
https://doi.org/10.1...
-
visa färre...
Abstract
Ämnesord
Stäng
- We have developed a self-aligned L-g = 55 nm In-0.53 Ga-0.47 As MOSFET incorporating metal-organic chemical vapor deposition regrown n(++) In0.6Ga0.4As source and drain regions, which enables a record low on-resistance of 199 Omega mu m. The regrowth process includes an InP support layer, which is later removed selectively to the n(++) contact layer. This process forms a high-frequency compatible device using a low-complexity fabrication scheme. We report on high-frequency measurements showing f(max) of 292 GHz and f(t) of 244 GHz. These results are accompanied by modeling of the device, which accounts for the frequency response of gate oxide border traps and impact ionization phenomenon found in narrow band gap FETs. The device also shows a high drive current of 2.0 mA/mu m and a high extrinsic transconductance of 1.9 mS/mu m. These excellent properties are attributed to the use of a gate-last process, which does not include high temperature or dry-etch processes.
Ämnesord
- TEKNIK OCH TEKNOLOGIER -- Elektroteknik och elektronik (hsv//swe)
- ENGINEERING AND TECHNOLOGY -- Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering (hsv//eng)
Nyckelord
- Gate-last
- InGaAs
- metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD)
- regrowth
- MOSFET
- self-aligned
- surface channel
Publikations- och innehållstyp
- art (ämneskategori)
- ref (ämneskategori)
Hitta via bibliotek
Till lärosätets databas