SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

id:"swepub:oai:DiVA.org:mdh-3118"
 

Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:mdh-3118" > Characterisation of...

  • Hansson, B. A. M.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden (författare)

Characterisation of a liquid-xenon jet laser-plasma extreme-ultraviolet source

  • Artikel/kapitelEngelska2004

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • AIP Publishing,2004
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:mdh-3118
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:mdh:diva-3118URI
  • https://doi.org/10.1063/1.1755441DOI
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-23472URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska
  • Sammanfattning på:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Anmärkningar

  • Emmanuelle Janin is the birthname of Emmanuelle Göthelid.
  • QC 20100525, QC 20111011
  • A liquid-xenon-jet laser-plasma source for extreme-ultraviolet (EUV) and soft-x-ray generation has been characterized. Being a source candidate for EUV lithography (EUVL), we especially focus on parameters important for the integration of the source in EUVL systems. The deep-ultraviolet (DUV) out-of-band radiation (=120–400 nm) was quantified, to within a factor of two, using a flying-circus tool together with a transmission-grating spectrograph resulting in a total DUV conversion efficiency (CE) of ~0.33%/2sr. The size and the shape of the xenon plasma was investigated using an in-band-only EUV microscope, based on a spherical Mo/Si multilayer mirror and a charge-coupled device detector. Scalability of the source size from 20–270 µm full width at half maximum was shown. The maximum repetition-rate sustainable by the liquid-xenon-jet target was simulated by a double-pulse experiment indicating feasibility of >17 kHz operation. The xenon-ion energy distribution from the plasma was determined in a time-of-flight experiment with a Faraday-cup detector showing the presence of multi-kilo-electron-volt ions. Sputtering of silicon witness plates exposed to the plasma was observed, while a xenon background of >1 mbar was shown to eliminate the sputtering. It is concluded that the source has potential to meet the requirements of future EUVL systems.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Hemberg, O.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)u16lyvg0 (författare)
  • Hertz, Hans M.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)u10uiefj (författare)
  • Berglund, MagnusRoy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden (författare)
  • Choi, H. J.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)- (författare)
  • Jacobsson, BjörnKTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)u1bulnxl (författare)
  • Janin, E.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)- (författare)
  • Mosesson, SofiaKTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)u1xrkwkm (författare)
  • Rymell, L.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)- (författare)
  • Thoresen, J.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)- (författare)
  • Wilner, M.KTH,Fysik,Roy. Inst. of Technology/Albanova, Sweden(Swepub:kth)- (författare)
  • KTHFysik (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Review of Scientific Instruments: AIP Publishing75:6, s. 2122-21290034-67481089-7623

Internetlänk

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy