Sökning: id:"swepub:oai:DiVA.org:uu-110994" >
Role of Si implanta...
-
Qiu, ZhijunKTH,Integrerade komponenter och kretsar
(författare)
Role of Si implantation in control of underlap length in Schottky-barrier source/drain MOSFETs on ultrathin body SOI
- Artikel/kapitelEngelska2008
Förlag, utgivningsår, omfång ...
-
NEW YORK :IEEE,2008
-
printrdacarrier
Nummerbeteckningar
-
LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-110994
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-110994URI
-
https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:kth:diva-92175URI
-
https://doi.org/10.1109/ULIS.2008.4527167DOI
Kompletterande språkuppgifter
-
Språk:engelska
-
Sammanfattning på:engelska
Ingår i deldatabas
Klassifikation
-
Ämneskategori:ref swepub-contenttype
-
Ämneskategori:kon swepub-publicationtype
Anmärkningar
-
QC 20120328
-
This works demonstrates a novel approach using Si implantation prior to Pt deposition and PtSi formation to control the underlap length between the PtSi source/drain regions to the gate in Schottky-Barrier (SB-) MOSFETs. Dopant segregation at the PtSi/Si interface is used to enhance device performance. With the lon /Ioff current ratio as an indicator, optimized Si implant doses are found for both n- and p-channel SB-MOSFETs. Through an effective barrier width, the underlap length has direct implication on the leakage current.
Ämnesord och genrebeteckningar
Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)
-
Zhang, ZuhuaKTH,Integrerade komponenter och kretsar(Swepub:kth)-
(författare)
-
Olsson, Jörgen,1966-Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)jorgolss
(författare)
-
Lu, J.Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik(Swepub:uu)jlu23482
(författare)
-
Hellström, Per ErikKTH,Integrerade komponenter och kretsar(Swepub:kth)u1wc1lgb
(författare)
-
Liu, R.
(författare)
-
Östling, MikaelKTH,Integrerade komponenter och kretsar(Swepub:kth)u1u0kle4
(författare)
-
Zhang, ShiLinKTH,Integrerade komponenter och kretsar(Swepub:kth)u1a28qyq
(författare)
-
KTHIntegrerade komponenter och kretsar
(creator_code:org_t)
Sammanhörande titlar
-
Ingår i:Proceedings of ULISNEW YORK : IEEE, s. 175-178, s. 175-178
-
Ingår i:ULIS 2008NEW YORK : IEEE, s. 175-178, s. 175-178
Internetlänk