Sharp Reduction of Contact Resistivities by Effective Schottky Barrier Lowering with Silicides as Diffusion Sources

Zhen, Zhang, 1979- (författare)

Uppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik

Pagette, F. (författare)

D'emic, C. (författare)

visa fler...

Yang, B. (författare)

Lavoie, C. (författare)

Ray, A. (författare)

Zhu, Y. (författare)

Hopstaken, M. (författare)

Maurer, S. (författare)

Murray, C. (författare)

Guillorn, M. (författare)

Klaus, D. (författare)

Bucchignano, J. (författare)

Bruley, J. (författare)

Ott, J. (författare)

Pyzyna, A. (författare)

Newbury, J. (författare)

Song, W. (författare)

Zuo, G. (författare)

Lee, K. (författare)

Ozcan, A. (författare)

Silverman, J. (författare)

Ouyang, C. (författare)

Park, D. (författare)

Solomon, P. (författare)

visa färre...

 (creator_code:org_t)

2010

2010

Engelska.

Ingår i: IEEE Electron Device Letters. - 0741-3106 .- 1558-0563. ; 31, s. 731-733

Relaterad länk:

https://urn.kb.se/re...

• Tidskriftsartikel (refereegranskat)