SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

L773:0042 207X OR L773:1879 2715
 

Sökning: L773:0042 207X OR L773:1879 2715 > (1977-1979) > Initial etching in ...

  • Andersson, LP (författare)

Initial etching in an RF butane plasma

  • Artikel/kapitelEngelska1978

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • 1978
  • printrdacarrier

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:oai:DiVA.org:uu-257845
  • https://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-257845URI

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska

Ingår i deldatabas

Klassifikation

  • Ämneskategori:ref swepub-contenttype
  • Ämneskategori:art swepub-publicationtype

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Berg, SörenUppsala universitet,Fasta tillståndets elektronik (författare)
  • Uppsala universitetFasta tillståndets elektronik (creator_code:org_t)

Sammanhörande titlar

  • Ingår i:Vacuum28, s. 449-0042-207X1879-2715

Internetlänk

Hitta via bibliotek

  • Vacuum (Sök värdpublikationen i LIBRIS)

Till lärosätets databas

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...
Andersson, LP
Berg, Sören
Artiklar i publikationen
Vacuum
Av lärosätet
Uppsala universitet

Sök utanför SwePub

Wikipedia om författaren:
LP_Andersson
Andersson, LP
en

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy