SwePub
Sök i LIBRIS databas

  Utökad sökning

WFRF:(Ericson F)
 

Sökning: WFRF:(Ericson F) > High-sensitivity su...

High-sensitivity surface micromachined structures for internal stress and stress gradient evaluation

Ericson, F (författare)
Uppsala universitet
Greek, S (författare)
Uppsala universitet
Soderkvist, J (författare)
Uppsala universitet
visa fler...
Schweitz, JA (författare)
Uppsala universitet
visa färre...
 (creator_code:org_t)
IOP PUBLISHING LTD, 1997
1997
Engelska.
Ingår i: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. - : IOP PUBLISHING LTD. - 0960-1317. ; 7:1, s. 30-36
  • Tidskriftsartikel (övrigt vetenskapligt/konstnärligt)
Abstract Ämnesord
Stäng  
  • The internal stress and stress gradient of thick (10 mu m) and thin (2 mu m) polysilicon films were evaluated with surface micromachined test structures. The structure that measured internal stress consisted of actuator beams rotating an indicator through

Nyckelord

POLYSILICON; FILMS

Publikations- och innehållstyp

vet (ämneskategori)
art (ämneskategori)

Hitta via bibliotek

Till lärosätets databas

Hitta mer i SwePub

Av författaren/redakt...
Ericson, F
Greek, S
Soderkvist, J
Schweitz, JA
Artiklar i publikationen
JOURNAL OF MICRO ...
Av lärosätet
Uppsala universitet

Sök utanför SwePub

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy